[發明專利]污染防護裝置及參數確定方法、物鏡防護系統、光刻機

有效

• 申請號: 201910032440.8
• 申請日: 2019-01-14
• 公開（公告）號: CN111435221B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 龔輝;張洪博;張瑞平;王鋒
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種污染防護裝置參數確定方法，用于污染防護裝置，其特征在于，

所述污染防護裝置包括：至少一組防護組件；

待清潔物體與所述防護組件沿第一方向依次設置，且所述待清潔物體的待清潔表面靠近所述防護組件；

所述防護組件包括至少一組清潔結構和至少一個對置物；

同一所述防護組件中，所述清潔結構和所述對置物沿第二方向間隔排列；所述清潔結構中設置有供氣通道；所述對置物、所述清潔結構和所述待清潔表面共同圍成第一清潔氣體傳輸通道，所述供氣通道包括出風口，所述供氣通道通過所述出風口與所述第一清潔氣體傳輸通道連通；

所述第一方向與所述第二方向交叉；

所述清潔結構包括沿第一方向依次設置的擋板和阻擋件；

所述擋板與待清潔物體的待清潔表面平行設置；

所述阻擋件包括第一擋墻和第二擋墻；

所述污染防護裝置參數確定方法包括：

獲取所述待清潔物體的相關參數；

根據所述待清潔物體的相關參數，確定所述出風口的類型和尺寸；

設置沿所述第一方向所述擋板的厚度、所述出風口的高度、所述第二擋墻的高度、以及清潔氣體流經所述出風口時的流速；

根據沿所述第一方向所述擋板的厚度、所述出風口的高度以及所述第二擋墻的高度、清潔氣體流經所述出風口時的流速以及邊界條件，得到污染物濃度的分布圖，并根據污染物濃度的分布圖判斷第一清潔氣體傳輸通道處的污染物濃度是否小于預設值，其中，所述邊界條件包括污染物流速和污染物種類；

若否，對所述沿所述第一方向所述擋板的厚度、所述出風口的高度、所述第二擋墻的高度、以及清潔氣體流經所述出風口時的流速中至少一項進行調整，重復執行所述根據沿所述第一方向所述擋板的厚度、所述出風口的高度以及所述第二擋墻的高度、清潔氣體流經所述出風口時的流速以及邊界條件，得到污染物濃度的分布圖，根據污染物濃度的分布圖判斷第一清潔氣體傳輸通道處的污染物濃度是否小于預設值的步驟；

若是，將當前所述沿所述第一方向所述擋板的厚度、所述出風口的高度、所述第二擋墻的高度、以及清潔氣體流經所述出風口時的流速輸出。

2.根據權利要求1所述的污染防護裝置參數確定方法，其特征在于，所述邊界條件包括污染物的流速和污染物的種類。