[發明專利]一種顯示裝置及其制作方法有效
| 申請號: | 201910032051.5 | 申請日: | 2019-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN109713018B | 公開(公告)日: | 2020-08-21 |
| 發明(設計)人: | 劉暾;閆華杰;焦志強 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;胡影 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示裝置 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示裝置,包括:顯示基板和彩膜結構;其中,所述顯示基板包括襯底基板和設置在所述襯底基板上的多個發光單元;所述彩膜結構包括遮光單元和多個間隔設置的彩色濾光單元,所述彩色濾光單元與所述發光單元一一對應,其特征在于,所述彩膜結構還包括:
多個透光的補償單元,所述補償單元與至少部分所述彩色濾光單元一一對應;
所述顯示裝置還包括反射單元,所述反射單元與所述補償單元一一對應,所述反射單元位于對應的所述發光單元的周邊,當所述顯示裝置處于暗態時,所述反射單元用于將從對應的所述補償單元入射的環境光,反射至對應的彩色濾光單元,使環境光從該彩色濾光單元射出所述顯示裝置;
所述反射單元在所述襯底基板上的正投影,位于對應的所述補償單元在所述襯底基板上的正投影和對應的所述彩色濾光單元在所述襯底基板上的正投影之間。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述補償單元位于對應的彩色濾光單元的周邊,所述補償單元與所述彩色濾光單元間隔設置。
3.根據權利要求1或2所述的顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置還包括設置在所述襯底基板上的像素界定層,所述像素界定層在所述襯底基板上限定出多個像素開口區,所述多個發光單元一一對應位于所述多個像素開口區中,所述反射單元位于所述像素界定層背向所述襯底基板的表面。
4.根據權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于,所述補償單元在所述襯底基板上的正投影,與對應的所述反射單元在所述襯底基板上的正投影不重疊。
5.根據權利要求1或2所述的顯示裝置,其特征在于,所述彩色濾光單元和對應的所述補償單元形成為組合濾光單元,所述顯示裝置包括的各所述組合濾光單元在所述襯底基板上的正投影的面積相等。
6.根據權利要求5所述的顯示裝置,其特征在于,所述彩色濾光單元包括紅色濾光單元、綠色濾光單元和藍色濾光單元,所述紅色濾光單元的面積大于所述綠色濾光單元的面積,且所述紅色濾光單元的面積小于所述藍色濾光單元的面積;
所述補償單元包括紅色補償單元、綠色補償單元和藍色補償單元,所述紅色補償單元的面積大于所述藍色補償單元的面積,且所述紅色補償單元的面積小于所述綠色補償單元的面積。
7.根據權利要求5所述的顯示裝置,其特征在于,所述發光單元包括相對設置的陰極層和具有反光作用的陽極層,以及位于所述陽極層和所述陰極層之間的發光層;其中所述陽極層位于所述陰極層和所述襯底基板之間;
所述反射單元和對應的發光單元中的陽極層形成為組合反射單元,所述顯示裝置包括的各所述組合反射單元在所述襯底基板上的正投影的面積相等。
8.根據權利要求7所述的顯示裝置,其特征在于,當所述顯示裝置包括未與所述補償單元對應的獨立彩色濾光單元,以及未與所述反射單元對應的獨立發光單元時,所述獨立彩色濾光單元在所述襯底基板上的正投影的面積與所述組合濾光單元在所述襯底基板上的正投影的面積相等;
所述獨立發光單元中的陽極層在所述襯底基板上的正投影的面積與所述組合反射單元在所述襯底基板上的正投影的面積相等。
9.根據權利要求1或2所述的顯示裝置,其特征在于,所述補償單元與對應的所述彩色濾光單元同層同材料設置。
10.根據權利要求1或2所述的顯示裝置,其特征在于,每一所述補償單元包括多個相互獨立的子補償單元,多個所述子補償單元分布在對應的彩色濾光單元的周邊。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司,未經京東方科技集團股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910032051.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置
- 下一篇:OLED顯示面板及其制作方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





