[發明專利]顯示基板及其制備方法、顯示面板在審
| 申請號: | 201910031490.4 | 申請日: | 2019-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN109557713A | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發明(設計)人: | 許徐飛;趙娜;黃鋼琪;王川艷;史高飛;沈奇雨 | 申請(專利權)人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1337;G02F1/1343;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 張京波;曲鵬 |
| 地址: | 230012 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示基板 配向層 光柵 偏光層 顯示結構 顯示面板 偏光片 透光軸 基底 配向 制備 暗態漏光 方向平行 配向處理 像素結構 有效解決 光透過 自對準 偏移 透光 多疇 兩層 垂直 | ||
本發明實施例提供了一種顯示基板及其制備方法、顯示面板。顯示基板包括基底、設置在所述基底上的顯示結構層和配向層;所述顯示結構層中設置有光柵偏光層,所述配向層的光配向方向與所述光柵偏光層的透光軸方向平行或垂直。本發明通過在顯示基板中設置光柵偏光層,實現了配向層與偏光片兩層之間的自對準,徹底消除了現有結構容易出現的偏光片的透光軸方向與配向層的配向方向偏移的情況,有效解決了現有結構存在的暗態漏光、透光效率低和對比度低等問題,提高了光透過效率和對比度。同時,本發明能夠對顯示基板進行多個方向的配向處理,不僅可以實現雙疇或多疇像素結構,而且便于MMG技術的實施。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,具體涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示面板。
背景技術
液晶顯示面板(Liquid Crystal Display,LCD)作為一種平板顯示裝置,因其具有體積小、功耗低、無輻射以及制作成本相對較低等特點,近年來得到迅速發展,越來越多地被應用于高性能顯示領域中。
圖1為現有液晶顯示面板的結構示意圖。如圖1所示,液晶顯示面板的主體結構包括對盒(CELL)的薄膜晶體管陣列(Thin Film Transistor,TFT)基板1和彩膜(ColorFilter,CF)基板2,液晶(Liquid Crystal,LC)層3設置在陣列基板1和彩膜基板2之間,通過液晶偏轉實現灰階顯示。為了保證正常的圖像顯示,陣列基板1朝向液晶層3的一側表面設置有第一配向層102,彩膜基板2朝向液晶層3的一側表面設置有第二配向層202,第一配向層102和第二配向層202用于使液晶分子具有初始的偏轉角度。同時,陣列基板1背離液晶層3的一側表面設置有第一偏光片103,彩膜基板2背離液晶層3的一側表面設置有第二偏光片203,第一偏光片103和第二偏光片203用于選擇通過線偏振光。其制備過程為:先分別制備包括第一配向層的陣列基板和包括第二配向層的彩膜基板,之后將陣列基板和彩膜基板對盒形成液晶盒,然后在液晶盒的外側分別貼附第一偏光片和第二偏光片。
經本申請發明人研究發現,采用現有工藝制備的液晶顯示面板存在暗態漏光、透光效率低和對比度低等問題,且不利于產品輕薄化。
發明內容
本發明實施例所要解決的技術問題是,提供一種顯示基板及其制備方法、顯示面板,以解決采用現有工藝制備的液晶顯示面板存在暗態漏光、透光效率低和對比度低等問題。
為了解決上述技術問題,本發明實施例提供了一種顯示基板,包括基底、設置在所述基底上的顯示結構層和配向層;所述顯示結構層中設置有光柵偏光層,所述配向層的光配向方向與所述光柵偏光層的透光軸方向平行或垂直。
可選地,所述光柵偏光層設置在每個子像素中的有效顯示區域,所述光柵偏光層的光柵周期為小于400nm,占空比為0.4~0.6。
可選地,所述光柵偏光層包括多個平行設置且周期排布的光柵條。
可選地,所述配向層的材料包括光致降解型,所述配向層的光配向方向與所述光柵偏光層的透光軸方向垂直;或者,所述配向層的材料包括光致聚合型,所述配向層的光配向方向與所述光柵偏光層的透光軸方向平行。
可選地,所述光柵偏光層在同一子像素內或者相鄰子像素內按疇形成不同的光柵方向,所述配向層在同一子像素內或者相鄰子像素內形成不同方向的配向,實現雙疇或多疇像素結構。
可選地,所述顯示基板包括陣列基板,所述顯示結構層包括陣列結構層,所述光柵偏光層與所述陣列結構層中的柵線或數據線同層設置,且通過一次構圖工藝形成。
可選地,所述顯示基板包括陣列基板,所述顯示結構層包括陣列結構層,所述光柵偏光層與所述陣列結構層中的像素電極或公共電極為一體結構,且通過一次構圖工藝形成。
可選地,所述顯示基板包括彩膜基板,所述顯示結構層包括彩膜結構層,所述光柵偏光層與所述彩膜結構層中的黑矩陣同層設置,且通過一次構圖工藝形成。
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