[發(fā)明專利]一種范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)型光電探測器及制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910028647.8 | 申請日: | 2019-01-11 |
| 公開(公告)號: | CN109817808B | 公開(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王軍;蔡明;史佳欣;張?jiān)棋?/a>;劉德幸;牛青辰 | 申請(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48 |
| 代理公司: | 成都聚蓉眾享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51291 | 代理人: | 張輝 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 瓦爾 斯異質(zhì)結(jié)型 光電 探測器 制備 方法 | ||
1.一種范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)型光電探測器及制備方法,包括襯底(7)和所述襯底(7)的頂部固定安裝有與底柵電極(1)頂部連接的介質(zhì)層(2),其特征在于:所述介質(zhì)層(2)的頂部固定安裝有一側(cè)位于P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)內(nèi)部的N型半導(dǎo)體MoS2(3),所述P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)的上表面固定安裝有石墨烯(5),所述N型半導(dǎo)體MoS2(3)和石墨烯(5)的頂部分別固定安裝有金屬電極(6);
所述N型半導(dǎo)體MoS2(3)的層數(shù)數(shù)量可以為單層、雙層或多層,且所述N型半導(dǎo)體MoS2(3)的厚度大小低于10nm,所述P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)的厚度大小在5nm—20nm之間;
所述石墨烯(5)烯附著P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)的上表面;
所述底柵電極(1)、介質(zhì)層(2)、N型半導(dǎo)體MoS2(3)、P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)、石墨烯(5)和金屬電極(6)共同構(gòu)成場效應(yīng)管結(jié)構(gòu),通過對所述底柵電極(1)電壓的調(diào)節(jié)可以使得N型半導(dǎo)體MoS2(3)和P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)的勢壘高度會(huì)升高或者降低;
所述N型半導(dǎo)體MoS2(3)和P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)組成的異質(zhì)結(jié)區(qū);
所述N型半導(dǎo)體MoS2(3)、P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)、石墨烯(5)的材質(zhì)為復(fù)合薄膜材質(zhì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)型光電探測器及制備方法,其特征在于:其制備流程包括以下步驟:
1)、對覆蓋有介質(zhì)層(2)和底柵電極(1)的襯底(7)進(jìn)行清洗,清洗的方法依次使用去污劑、丙酮、乙醇和去離子水超聲清洗;
2)、采用機(jī)械剝離法制備單層、雙層或多層的N型半導(dǎo)體MoS2(3)轉(zhuǎn)移到步驟一中清洗好的帶有介質(zhì)層(2)的襯底(7)的頂部;
3)、對步驟二中的襯底(7)蒸鍍上P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4);
4)、將石墨烯(5)轉(zhuǎn)移到步驟三中的P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)的頂部;
5)、對步驟四中的P型有機(jī)半導(dǎo)體薄膜材料(4)分別進(jìn)行光刻、去膠和刻蝕完成圖形化;
6)、最后將完成的步驟五中基片光刻并鍍上金屬電極(6),并去膠,完成器件制作。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
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