[發明專利]一種檢測分子蒸發量的蒸鍍膜厚復合裝置及其工作方法

在審

• 申請號: 201910024005.0
• 申請日: 2019-01-10
• 公開（公告）號: CN109536914A
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發明（設計）人: 孔令杰;吳克松;李明;李曉麗
• 申請（專利權）人: 合肥百思新材料研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/24;C23C14/12;C23C14/50
• 代理公司: 北京和信華成知識產權代理事務所(普通合伙) 11390
• 代理人: 胡劍輝

1.一種檢測分子蒸發量的蒸鍍膜厚復合裝置，其特征在于，包括：設備框架(1)、真空艙(6)、基板旋轉結構、膜厚檢測結構、法蘭升降結構；真空艙(6)、基板旋轉結構、膜厚檢測結構、法蘭升降結構集成安裝在設備框架(1)上；

所述基板旋轉結構包括旋轉步進電機(2)、聯軸器(16)、磁流體密封軸(9)，旋轉步進電機(2)通過聯軸器(16)與磁流體密封軸(9)連接，旋轉步進電機(2)、聯軸器(16)、磁流體密封軸(9)同軸設置；

所述法蘭升降結構包括：上法蘭(17)、下法蘭(18)，真空艙(6)的頂部通過O型密封圈與上法蘭(17)連接，真空艙(6)的底部通過O型密封圈與下法蘭(18)連接，磁流體密封軸(9)穿過上法蘭(17)并伸入真空艙(6)內與上加熱板(4)連接；

所述上法蘭(17)通過第一真空電極(3)與上加熱板(4)連接；下法蘭(18)的側壁連接有分子泵(7)與真空規；下法蘭(18)的頂部設有下加熱板(13)，下加熱板(13)同軸連接有轉動盤(19)，轉動盤(19)預留有缺口，下加熱板(13)、轉動盤(19)通過第二真空電極(15)與下法蘭(18)連接；下法蘭(18)與真空艙(6)的連接處設有熱電偶(14)。

2.根據權利要求1所述的檢測分子蒸發量的蒸鍍膜厚復合裝置，其特征在于，所述真空艙(6)呈中空圓筒狀，真空艙(6)的圓筒狀壁部設有觀察窗(11)，觀察窗(11)上開設有真空艙門(12)。

3.根據權利要求1所述的檢測分子蒸發量的蒸鍍膜厚復合裝置，其特征在于，設備框架(1)的上部側壁設有控制面板(8)，中部側壁設有電氣安裝區域(5)。

4.根據權利要求1所述的檢測分子蒸發量的蒸鍍膜厚復合裝置，其特征在于，所述膜厚檢測結構包括膜厚儀(10)，上法蘭(17)上開設有安裝孔，膜厚儀(10)穿過安裝孔且其探頭伸入真空艙(6)內。

5.一種檢測分子蒸發量的蒸鍍膜厚復合裝置的工作方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)將上基板、下基板分別放置于上加熱板(4)與下加熱板(13)上，在下基板上放置待蒸鍍材料，啟動分子泵(7)對真空艙(6)進行抽真空；

2)待真空度達到目標值10^-3Pa以下時，上加熱板(4)、下加熱板(13)分別將上基板、下基板加熱至100℃、235℃，下基板上的待蒸鍍材料在受熱后，分子或原子從表面氣化逸出，形成鍍材的蒸汽流入射到上基板表面，凝華形成固態薄膜；

3)通過膜厚儀(10)探頭采集膜厚數據，熱電偶(14)采集溫度數據，真空計檢測真空度，得到待蒸鍍區的厚度變化生成厚度與溫度、真空度、行程間的關系，由此得知不同材料在不同條件下的蒸鍍膜厚變化速率，轉換得到不同待蒸鍍材料在相同外界條件下的沉積分子量。