[發明專利]一種柔性顯示基板的制備方法

在審

• 申請號: 201910023400.7
• 申請日: 2019-01-10
• 公開（公告）號: CN109742265A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發明（設計）人: 郭遠征;楊靜
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;張天舒

1.一種柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，包括以下制備步驟：

在剛性襯底上形成易分離層，所述易分離層包括多個易分離結構，所述易分離結構之間具有開口間隙；

在易分離結構背離剛性襯底的一側形成平坦化層，所述平坦化層填充所述開口間隙并與剛性襯底接觸；

在平坦化層背離剛性襯底的一側形成柔性襯底；

在柔性襯底背離剛性襯底的一側形成顯示元件；

將剛性襯底至少與其上的平坦化層進行機械分離，以使剛性襯底與柔性襯底分離；

其中，平坦化層與柔性襯底的附著力大于平坦化層與剛性襯底的附著力；同樣面積的剛性襯底，直接接觸于其上的平坦化層與其分離的力大于平坦化層和易分離結構均接觸時分離的力。

2.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述易分離結構與剛性襯底之間的附著力小于所述平坦化層與剛性襯底之間的附著力。

3.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述易分離結構至剛性襯底上的正投影落入柔性襯底至剛性襯底上的正投影范圍內。

4.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述柔性襯底至剛性襯底上的正投影落入平坦化層至剛性襯底上的正投影范圍內。

5.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，在對應開口間隙的位置處，且垂直于所述襯底的方向上，所述平坦化層的尺寸小于900埃米。

6.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述平坦化層由隔阻水氧的絕緣材料構成。

7.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述平坦化層由氮化硅構成。

8.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述易分離結構包括第一分離層和第二分離層，所述第一分離層相較于所述第二分離層更靠近剛性襯底形成；所述第一分離層與剛性襯底之間的附著力大于所述第一分離層與第二分離層之間的附著力。

9.根據權利要求8所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述形成易分離層包括：

形成鉬金屬層；

將鉬金屬層背離剛性襯底一側的表面氧化形成氧化鉬薄膜；

將鉬金屬層與氧化鉬薄膜圖案化得到多個易分離結構，所述易分離結構之間具有開口間隙。

10.根據權利要求1所述的柔性顯示基板的制備方法，其特征在于，所述多個易分離結構的圖案包括多個相同或不同的圖形，多個所述圖形在剛性襯底上均勻分布，所述圖形包括六菱形、四邊形、圓形中的任意一種或幾種。