[發(fā)明專利]一種近紅外光發(fā)光材料及包含其的發(fā)光裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910020583.7 | 申請日: | 2019-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN110157417B | 公開(公告)日: | 2022-05-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉榮輝;劉元紅;江澤;高慰;李彥峰;崔磊 | 申請(專利權)人: | 有研稀土新材料股份有限公司;國科稀土新材料有限公司 |
| 主分類號: | C09K11/64 | 分類號: | C09K11/64;C09K11/59;H01L33/50 |
| 代理公司: | 北京智橋聯(lián)合知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11560 | 代理人: | 洪余節(jié) |
| 地址: | 100088 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紅外光 發(fā)光 材料 包含 裝置 | ||
1.一種近紅外發(fā)光材料,其特征在于,其包含化學式為QqRrAltSiuNv的無機化合物,R為Ca和Sr;Q為Cr、Eu和Yb;0.005≤q≤0.05,0.8≤q+r≤1.2,0.8≤t≤1.2,0.8≤u≤1.2,2.4≤v≤3.6;所述的無機化合物與CaAlSiN3具有相同的晶體結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權利要求1所述的近紅外發(fā)光材料,其特征在于, (q+r):t:u:v=1:1:1:3。
3.根據(jù)權利要求1-2任一所述的近紅外發(fā)光材料,其特征在于,其發(fā)射光譜在900-1100nm范圍的最高峰值強度為A,發(fā)射光譜在700-750nm范圍內(nèi)的最高峰值強度為B,0.95≤A/(A+B)≤0.99。
4.一種發(fā)光裝置,包括熒光體和激發(fā)光源,其特征在于,所述熒光體包括權利要求1-3中任一項所述的近紅外發(fā)光材料。
5.根據(jù)權利要求4所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述發(fā)光裝置包含半導體芯片(2)、光轉(zhuǎn)化部Ⅰ(1)和光轉(zhuǎn)化部Ⅱ(6),光轉(zhuǎn)化部Ⅰ(1)吸收半導體芯片(2)發(fā)出的一次光,并轉(zhuǎn)換為更高波長的二次光,光轉(zhuǎn)化部Ⅱ(6)吸收半導體芯片(2)的一次光和光轉(zhuǎn)化部Ⅰ(1)發(fā)出的二次光,并轉(zhuǎn)換為更高波長的三次光,所述光轉(zhuǎn)化部Ⅰ(1)至少含有發(fā)光材料Ⅰ,光轉(zhuǎn)化部Ⅱ(6)至少含有權利要求1-3任一項所述的近紅外發(fā)光材料。
6.根據(jù)權利要求5所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述發(fā)光材料Ⅰ,其在半導體芯片(2)激發(fā)下,可以發(fā)射出峰值波長為580-650nm的發(fā)射光。
7.根據(jù)權利要求6所述的發(fā)光裝置,其特征在于,所述發(fā)光材料Ⅰ為選自通式MmAlaSibNc:Eud或MeSifNg:Eun中的發(fā)光材料中的一種或兩種,其中,M元素至少含有Ca和Sr中的一種或一種以上元素,0.8≤m≤1.2,0.8≤a≤1.2,0.8≤b≤1.2,2≤c≤4,0.0001≤d≤0.1,1.8≤e≤2.2,4≤f≤6,7≤g≤9,0.0001≤n≤0.1。
8.根據(jù)權利要求5-7任一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,發(fā)光材料Ⅰ具有CaAlSiN3或Sr2Si5N8的晶型結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權利要求5-7任一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,發(fā)光材料Ⅰ中,M為Ca和Sr元素,其中Sr元素與M元素的摩爾百分比為z,80%≤z<100%。
10.根據(jù)權利要求5-7任一所述的發(fā)光裝置,其特征在于,半導體芯片(2)發(fā)射峰值波長范圍為350-500 nm。
11. 根據(jù)權利要求10所述的發(fā)光裝置,其特征在于,半導體芯片(2)發(fā)射峰值波長范圍為440-460 nm。
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