[發(fā)明專利]一種結構光投影儀及3D攝像頭有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910020239.8 | 申請日: | 2019-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN109709742B | 公開(公告)日: | 2021-08-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 朱力;呂方璐;汪博 | 申請(專利權)人: | 深圳市光鑒科技有限公司 |
| 主分類號: | G03B15/02 | 分類號: | G03B15/02;H04N13/225;G03B30/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 王寶筠 |
| 地址: | 518054 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 結構 投影儀 攝像頭 | ||
1.一種結構光投影儀,其特征在于,所述結構光投影儀包括:第一透鏡結構,和/或設置在所述結構光投影儀的出光口的第二透鏡結構;
所述第一透鏡結構的位置可調或焦距可調,所述第二透鏡結構的位置可調或焦距可調;
其中,通過調節(jié)所述第一透鏡結構的位置或焦距,或調節(jié)所述第二透鏡結構的位置或焦距,以使所述結構光投影儀發(fā)射出散斑點陣或光強連續(xù)分布的光輸出。
2.根據(jù)權利要求1所述的結構光投影儀,其特征在于,所述結構光投影儀還包括:激光發(fā)射器、光束整形器、衍射光柵和光學投射透鏡;
所述激光發(fā)射器用于發(fā)射出激光;
所述光束整形器用于對所述激光進行擴束和準直處理;
所述衍射光柵用于對所述光束整形器處理后的激光進行衍射;
所述光學投射透鏡用于對所述衍射光柵處理后的激光進行投射;
其中,所述光學投射透鏡或所述光束整形器為所述第一透鏡結構,所述光學投射透鏡或所述光束整形器的位置可調或焦距可調。
3.根據(jù)權利要求2所述的結構光投影儀,其特征在于,所述光束整形器包括:光學擴束器件和光學準直器件;
其中,所述光學擴束器件用于對所述激光發(fā)射器發(fā)出的激光進行擴束處理;
所述光學準直器件用于對所述光學擴束器件處理后的激光進行準直處理。
4.根據(jù)權利要求1所述的結構光投影儀,其特征在于,所述第二透鏡結構為音圈馬達;
其中,所述音圈馬達位于所述結構光投影儀的出光口,且所述音圈馬達的位置固定不變。
5.根據(jù)權利要求4所述結構光投影儀,其特征在于,所述音圈馬達包括:
底座;
依次設置在所述底座上的下彈片、磁鐵、線圈、鏡頭載體、上彈片、壓板、上固定圈和防磁罩;
固定在所述鏡頭載體上的鏡頭;
其中,通過在所述線圈中加入電流,產生磁力線,以推動所述磁鐵和所述鏡頭進行移動,進而調節(jié)所述鏡頭的位置,以使所述結構光投影儀發(fā)射出散斑點陣或光強連續(xù)分布的光輸出。
6.根據(jù)權利要求1所述的結構光投影儀,其特征在于,所述第二透鏡結構為液體透鏡;
其中,通過改變所述液體透鏡的曲率以改變所述液體透鏡的焦距。
7.根據(jù)權利要求6所述的結構光投影儀,其特征在于,所述液體透鏡包括:
半導體襯底;
設置在所述半導體襯底表面的絕緣層;
設置在所述絕緣層背離所述半導體襯底一側的液體。
8.根據(jù)權利要求7所述的結構光投影儀,其特征在于,所述液體透鏡還包括:電壓控制電路;
所述電壓控制電路的一端與所述液體連接,另一端與所述半導體襯底連接;
其中,通過所述電壓控制電路提供不同的電壓條件,以改變所述液體透鏡的曲率,進而改變所述液體透鏡的焦距。
9.一種3D攝像頭,其特征在于,包括:如權利要求1-8任一項所述的結構光投影儀。
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