[發明專利]射線輻照裝置

在審

• 申請號: 201910020002.X
• 申請日: 2019-01-09
• 公開（公告）號: CN109524146A
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 梁征;周合軍;傅冰;王強強;孟輝;何遠;李營;宗春光;李薦民;李元景;陳志強
• 申請（專利權）人: 同方威視技術股份有限公司;清華大學;同方威視科技（北京）有限公司
• 主分類號: G21K5/00
• 分類號: G21K5/00;G21F3/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 艾春慧

本公開提供一種射線輻照裝置，包括：主屏蔽體，內部設有輻照空間和連通輻照空間與主屏蔽體外部的通道；射線源，設于主屏蔽體內，用于向輻照空間發射射線；運動屏蔽體，包括屏蔽部和連接于屏蔽部的載物臺，運動屏蔽體相對于主屏蔽體運動以在屏蔽狀態和物品裝卸狀態之間切換，其中，在屏蔽狀態，屏蔽部與通道配合共同屏蔽輻照空間內的射線，載物臺位于輻照空間內以使載物臺上承載的被輻照物品接受射線輻照；在物品裝卸狀態，屏蔽部與通道解除配合，載物臺位于主屏蔽體外部以裝卸被輻照物品。本公開提供的射線輻照裝置可以降低成本及減小屏蔽體的占地面積。

技術領域

本公開涉及射線輻照技術領域，特別涉及一種射線輻照裝置。

背景技術

現有技術中，射線輻照裝置，如高能X射線輻照裝置中，需要為高能X射線源建立屏蔽體，用來阻擋X射線和中子等射線以防泄漏。但是被輻照物品需要搬運到X射線源附近接受輻照，然后離開X射線源。這就導致即使搬運很小的物品，也需要在屏蔽體上開通道。通道造成的空隙帶來額外射線漏出，因此需要在現有開通道的屏蔽體外部建立更大的外圍屏蔽體，用來吸收這部分額外漏出的射線。

圖1為現有技術的高能X射線輻照裝置的原理性結構示意圖。如圖1所示，主屏蔽體10內部設置高能X射線源20，主屏蔽體10內設置通道，通道內設置搬運機構30，被輻照物品經輸送機構40輸送至搬運機構30上，由搬運機構30將被輻照物品搬運至高能X射線源20附近接受輻照，被輻照物品A經高能X射線源20輻照后再經搬運機構30搬離X射線源20。外圍屏蔽體50內設置容置槽，主屏蔽體10、搬運機構30和至少部分輸送機構40均設置于容置槽內。通道16開口面對外圍屏蔽體50的容置槽的槽底壁。

以上現有技術中，用于輻照的高能X射線源20功率越大，主屏蔽體10占地面積和重量越大，并且呈幾何級數增長，外圍屏蔽體50隨之增大。制造主屏蔽體10和外圍屏蔽體50的材料價格較高，對于射線源20功率要求很高的射線輻照裝置，如光子活化分析裝置，增大了投資成本。而且屏蔽裝置占地面積較大。

發明內容

本公開的目的在于提供一種射線輻照裝置，包括：

主屏蔽體，內部設有輻照空間和連通所述輻照空間與所述主屏蔽體外部的通道；

射線源，設于所述主屏蔽體內，用于向所述輻照空間發射射線；和

運動屏蔽體，包括屏蔽部和連接于所述屏蔽部的載物臺，所述運動屏蔽體相對于所述主屏蔽體運動以在屏蔽狀態和物品裝卸狀態之間切換，其中，在所述屏蔽狀態，所述屏蔽部與所述通道配合共同屏蔽所述輻照空間內的射線，所述載物臺位于所述輻照空間內以使所述載物臺上承載的被輻照物品接受所述射線輻照；在所述物品裝卸狀態，所述屏蔽部與所述通道解除配合，所述載物臺位于所述主屏蔽體外部以裝卸所述被輻照物品。

在一些實施例中，所述運動屏蔽體通過直線運動、擺動和/或轉動在所述屏蔽狀態和所述物品裝卸狀態之間切換。

在一些實施例中，所述射線輻照裝置還包括輸送機構，在所述物品裝卸狀態，所述輸送機構與所述載物臺配合以向所述載物臺輸送所述被輻照物品或從所述載物臺接收所述被輻照物品。

在一些實施例中，所述通道為變截面通道，所述屏蔽部包括與所述變截面通道配合的變截面體，以防止所述輻照空間內的射線經直線路徑通過所述通道與所述屏蔽部之間的間隙。

在一些實施例中，

所述主屏蔽體包括由內向外的多層主屏蔽體層，所述輻照空間位于最內側的所述主屏蔽體層內部；

所述運動屏蔽體的屏蔽部包括在所述屏蔽狀態從所述輻照空間至遠離所述輻照空間順次設置的多層運動屏蔽體層。

在一些實施例中，各所述運動體屏蔽層與各所述主屏蔽體層對應設置，各所述運動屏蔽體層與對應所述主屏蔽體層的材料和厚度相同。