[發明專利]一種基于鈣鈦礦薄膜的可見光條紋相機光陰極制備方法

有效

• 申請號: 201910014051.2
• 申請日: 2019-01-08
• 公開（公告）號: CN109742239B
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發明（設計）人: 黎宇坤;李晉;陳韜;鄧克立;楊品;楊志文;胡昕;王強強;袁錚;曹柱榮
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: H01L51/42
• 分類號: H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48;G03B39/00
• 代理公司: 中國工程物理研究院專利中心 51210
• 代理人: 翟長明;韓志英

1.一種基于鈣鈦礦薄膜的可見光條紋相機光陰極制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

a.提供一塊帶成像狹縫(4)的光陰極支架(1)；

b.提供一塊能夠自支撐的透明導電襯底(2)，粘貼在步驟a的光陰極支架(1)的成像狹縫(4)上，透明導電襯底(2)與光陰極支架(1)形成歐姆接觸；

c.在步驟b的透明導電襯底(2)的表面上，旋涂BX₂溶液(5)，然后加熱去除溶劑，得到BX₂薄膜；BX₂溶液(5)中的溶質為BX₂，其中B為Pb²⁺或Sn²⁺，X為鹵族元素陰離子中的I^-或Br^-，BX₂溶液(5)中的溶劑為N，N-二甲基甲酰胺DMF、γ-丁內酯GBL或二甲基亞砜DMSO中的一種或多種的組合；

d.在步驟c獲得的BX₂薄膜上，旋涂AX溶液(6)，然后整體進行退火處理，獲得所需的鈣鈦礦ABX₃薄膜(3)；AX溶液(6)的溶質為AX，其中的A為CH₃NH₃⁺或Cs⁺，AX溶液(6)中的溶劑為N，N-二甲基甲酰胺DMF、γ-丁內酯GBL或二甲基亞砜DMSO中的一種或多種的組合。

2.根據權利要求1所述的基于鈣鈦礦薄膜的可見光條紋相機光陰極制備方法，其特征在于：所述的步驟a中，光陰極支架(1)的材料為無磁不銹鋼；成像狹縫(4)的長度范圍為10mm～100mm，寬度范圍為0.05mm～2mm。

3.根據權利要求1所述的基于鈣鈦礦薄膜的可見光條紋相機光陰極制備方法，其特征在于：所述的步驟b中，透明導電襯底(2)的材料為導電玻璃ITO或有機導電薄膜PEDOT：PSS中的一種或兩種的組合；透明導電襯底(2)的厚度范圍為0.1μm～1000μm。

4.根據權利要求1所述的基于鈣鈦礦薄膜的可見光條紋相機光陰極制備方法，其特征在于：所述的步驟b中，透明導電襯底(2)的大小能完全覆蓋光陰極支架(1)的成像狹縫(4)。

5.根據權利要求1所述的基于鈣鈦礦薄膜的可見光條紋相機光陰極制備方法，其特征在于：所述的步驟d中，鈣鈦礦ABX₃薄膜(3)的厚度范圍為100nm～1000nm。