[發明專利]一種立方氮化硼表面粗糙化處理方法在審
| 申請號： | 201910012281.5 | 申請日： | 2019-01-07 |
| 公開（公告）號： | CN109455680A | 公開（公告）日： | 2019-03-12 |
| 發明（設計）人： | 張相法;王永凱;位星;劉紅偉;王大鵬;薛磊 | 申請（專利權）人： | 鄭州中南杰特超硬材料有限公司 |
| 主分類號： | C01B21/064 | 分類號： | C01B21/064 |
| 代理公司： | 鄭州紅元帥專利代理事務所(普通合伙) 41117 | 代理人： | 楊妙琴 |
| 地址： | 450001 河南省鄭*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 立方氮化硼表面 粗糙化處理 立方氮化硼 觸媒粉末 立方氮化硼顆粒 表面粗糙度 后續處理 快速反應 合成 污染 | ||
1.一種立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）取立方氮化硼顆粒加入容器內，向容器內加入合成立方氮化硼的觸媒粉末混合均勻，所加入的立方氮化硼與觸媒粉末的質量比為1:1~3；
（2）將盛有混合物的容器放入馬弗爐中，以10℃~20℃/min的速率升溫至400℃~1000℃，保溫10min~90min；
（3）隨爐降溫后，從馬弗爐中取出容器，向容器內緩慢加入水，待觸媒粉末與水充分反應后，將容器中的立方氮化硼顆粒取出；
（4）將步驟（3）獲得的立方氮化硼顆粒用鹽酸清洗，然后再用水沖洗至中性，取出清洗后的立方氮化硼顆粒；
（5）將步驟（4）得到的立方氮化硼顆粒在80℃~120℃條件下烘干4~6h，然后進行篩分，獲得表面處理的立方氮化硼顆粒。
2.根據權利要求1所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末為鎂粉、鋰粉、氮化鎂、氮化鋰、硼化鎂、硼化鋰、氮硼化鎂中的一種、兩種或兩種以上的混合物。
3.根據權利要求2所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末為氮化鎂。
4.根據權利要求2所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末為氮化鋰。
5.根據權利要求2所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末為氮硼化鎂。
6.根據權利要求2所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末為鎂粉與氮化鋰的混合物。
7.根據權利要求2所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末為硼化鋰與氮硼化鎂的混合物。
8.根據權利要求2所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末為鎂粉、鋰粉、氮硼化鎂的混合物。
9.根據權利要求1所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述觸媒粉末的粒度為低于100目。
10.根據權利要求1所述的立方氮化硼表面粗糙化處理方法，其特征在于，所述鹽酸為工業用鹽酸。
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