[發明專利]一種溢流式微波輻射飲用水消毒系統

在審

• 申請號: 201910011859.5
• 申請日: 2019-01-07
• 公開（公告）號: CN109534437A
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發明（設計）人: 王楠楠;趙嬙
• 申請（專利權）人: 北京石油化工學院
• 主分類號: C02F1/30
• 分類號: C02F1/30
• 代理公司: 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260
• 代理人: 鄭立明;趙鎮勇

本發明公開了一種溢流式微波輻射飲用水消毒系統，包括微波發生器腔體，微波發生器腔體內設有溢流管和傾斜式集水盤，溢流管自上而下依次為待消毒水溢流口、待消毒水流動通道、連接段、待消毒水入口，傾斜式集水盤設于待消毒水流動通道下部，傾斜式集水盤包括集水盤底面和邊壁，傾斜式集水盤最下端設有排水口。該系統具有待消毒水消毒效果好，微波分散均勻且能量利用率高，磁控管使用壽命長的優點。

技術領域

本發明涉及一種飲用水消毒系統，尤其涉及一種溢流式微波輻射飲用水消毒系統。

背景技術

微波在照射細菌時，會導致細菌體內的蛋白質和其他生理活動所需物質發生變異，從而殺死細菌或使細菌的生長受阻。

在飲用水消毒領域，微波已得到一定應用。實踐證明，微波滅菌效果較好，但微波在水中的穿透深度限制了消毒效果的進一步提高。當水深超過微波的穿透深度后，較深處的水就無法接受到微波輻射，導致飲用水消毒效果受到嚴重影響。

發明內容

本發明的目的是提供一種溢流式微波輻射飲用水消毒系統。

本發明的目的是通過以下技術方案實現的：

本發明的溢流式微波輻射飲用水消毒系統，包括微波發生器腔體，所述微波發生器腔體內設有溢流管和傾斜式集水盤，所述溢流管自上而下依次為待消毒水溢流口、待消毒水流動通道、連接段、待消毒水入口，所述傾斜式集水盤設于所述待消毒水流動通道下部，所述傾斜式集水盤包括集水盤底面和邊壁，所述傾斜式集水盤最下端設有排水口。

由上述本發明提供的技術方案可以看出，本發明實施例提供的溢流式微波輻射飲用水消毒系統，通過使待消毒水以水膜形式流動，微波可輕易穿透水膜，有效殺滅待消毒水中的致病微生物；通過將待消毒水流動通道外壁設置為金屬材質，使微波穿透水膜后，還會被反射回水膜，對待消毒水進行二次消毒，同時有利于微波在微波發生器腔體中的均勻分布；通過調節傾斜式集水盤底面坡度和邊壁高度，可調節該消毒系統對已消毒水的儲水量。該系統具有待消毒水消毒效果好，微波能量利用率高，微波輻射均勻的優點。

附圖說明

圖1為本發明實施例提供的溢流式微波輻射飲用水消毒系統俯視圖；

圖2為本發明實施例提供的溢流式微波輻射飲用水消毒系統的1-1截面圖；

圖3為本發明實施例提供的溢流式微波輻射飲用水消毒系統的2-2截面圖；

圖4為本發明實施例提供的溢流式微波輻射飲用水消毒系統中溢流管的俯視放大圖；

圖5為本發明實施例中待消毒水在溢流管中的流動示意圖；

圖6為本發明實施例中已消毒水在傾斜式集水盤上的流動示意圖。

圖中：

1-溢流管；2-傾斜式集水盤；3-微波發生器腔體；4-排水口；1-1-待消毒水溢流口；1-2-待消毒水流動通道；1-3-連接段；1-4-待消毒水入口；2-1-集水盤底面；2-2-邊壁。

具體實施方式

下面將對本發明實施例作進一步地詳細描述。本發明實施例中未作詳細描述的內容屬于本領域專業技術人員公知的現有技術。

本發明的溢流式微波輻射飲用水消毒系統，其較佳的具體實施方式是：

包括微波發生器腔體，所述微波發生器腔體內設有溢流管和傾斜式集水盤，所述溢流管自上而下依次為待消毒水溢流口、待消毒水流動通道、連接段、待消毒水入口，所述傾斜式集水盤設于所述待消毒水流動通道下部，所述傾斜式集水盤包括集水盤底面和邊壁，所述傾斜式集水盤最下端設有排水口。

所述微波發生器腔體和所述傾斜式集水盤均為尺寸可調節結構，所述微波發生器腔體內設有多個所述溢流管。