[發(fā)明專利]曲面玻璃基板的加工方法及玻璃成形體的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910011449.0
• 申請日: 2019-01-07
• 公開（公告）號: CN110014353B
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小野丈彰;齋藤勛;板橋毅
• 申請（專利權(quán)）人: AGC株式會社
• 主分類號: B24B19/22
• 分類號: B24B19/22;B24B1/00;C03B33/02;C03C15/00;C03C17/30;C03B27/00;C03C21/00
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種曲面玻璃基板的加工方法，該曲面玻璃基板的加工方法將表面具有曲面的曲面玻璃基板保持于臺座，并基于已預(yù)先設(shè)定的加工程序利用加工裝置對所述曲面玻璃基板實(shí)施加工，其中，

該曲面玻璃基板的加工方法包含：

加工路徑檢測工序，對于保持于所述臺座的所述曲面玻璃基板的表面，在利用所述加工裝置加工時的至少加工路徑上和加工路徑附近的任一者利用傳感器檢測所述曲面玻璃基板的表面位置；

加工程序校正工序，基于檢測到的所述曲面玻璃基板的表面位置校正所述加工程序；以及

基板加工工序，基于校正后的所述加工程序利用所述加工裝置對所述曲面玻璃基板實(shí)施加工，

所述加工路徑檢測工序在保持于所述臺座的所述曲面玻璃基板的表面中的外緣部的多個部位利用所述傳感器檢測位置，

在將檢測部位的所述曲面玻璃基板的曲率設(shè)為Rmm時，所述加工路徑檢測工序中的所述傳感器的測量間隔為(R/1000)mm以上且Rmm以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

所述外緣部為距離所述曲面玻璃基板的端部10mm以內(nèi)的區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

在所述加工路徑檢測工序之前進(jìn)行：

表面位置檢測工序，在所述曲面玻璃基板的表面中的多個部位利用所述傳感器檢測所述曲面玻璃基板的表面位置；以及

控制坐標(biāo)校正工序，基于檢測到的所述曲面玻璃基板的表面位置，校正利用所述加工程序控制所述加工裝置的坐標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

所述表面位置檢測工序在保持于所述臺座的所述曲面玻璃基板的表面中的整個面的多個部位利用所述傳感器檢測位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

在所述曲面玻璃基板的表面中的整個面的多個部位利用所述傳感器檢測位置時，在將檢測部位的所述曲面玻璃基板的曲率設(shè)為Rmm時，所述傳感器的位置檢測間隔為(R/1000)mm以上且Rmm以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

所述曲面玻璃基板包括定位標(biāo)記，以所述定位標(biāo)記為基準(zhǔn)將所述曲面玻璃基板保持于所述臺座。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

所述臺座具備緩沖層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

所述緩沖層的楊氏模量為0.1MPa～50MPa。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

所述臺座利用負(fù)壓對所述曲面玻璃基板進(jìn)行保持。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曲面玻璃基板的加工方法，其中，

所述曲面玻璃基板的厚度為0.2mm以上且5mm以下。

11.一種玻璃成形體的制造方法，其中，

該玻璃成形體的制造方法利用權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的曲面玻璃基板的加工方法對所述曲面玻璃基板進(jìn)行加工而獲得玻璃成形體。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的玻璃成形體的制造方法，其中，

該玻璃成形體的制造方法還實(shí)施表面處理。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的玻璃成形體的制造方法，其中，

該玻璃成形體的制造方法還實(shí)施強(qiáng)化處理。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的玻璃成形體的制造方法，其中，

所述強(qiáng)化處理為化學(xué)強(qiáng)化處理。