[發(fā)明專(zhuān)利]光配向掩膜版修復(fù)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910010959.6
• 申請(qǐng)日: 2019-01-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109471328A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 戴明鑫;李林;劉聰聰;陳林;楊俊
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 成都中電熊貓顯示科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/72
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/72
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 李小波;劉芳

1.一種光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，包括：

對(duì)待修復(fù)掩膜版的損傷位置涂抹第一遮光色阻；

在預(yù)設(shè)溫度環(huán)境中對(duì)所述待修復(fù)掩膜版進(jìn)行加熱；

對(duì)所述待修復(fù)掩膜版進(jìn)行清洗，以形成修復(fù)后掩膜版。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，在對(duì)所述待修復(fù)掩膜版進(jìn)行清洗之前，還包括：

對(duì)所述修復(fù)后掩膜版進(jìn)行表面高度測(cè)量，以獲取最大高度差以及平整度；

確定所述最大高度差小于預(yù)設(shè)高度差閾值，所述平整度小于預(yù)設(shè)平整度閾值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)高度差閾值為5微米，所述預(yù)設(shè)平整度閾值為2％。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，在所述對(duì)所述待修復(fù)掩膜版進(jìn)行清洗之后，還包括：

對(duì)所述修復(fù)后掩膜版進(jìn)行透光測(cè)試，確定所述損傷位置在修補(bǔ)后無(wú)透光。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，在所述確定所述損傷位置修補(bǔ)后無(wú)透光之后，還包括：

利用所述修復(fù)后掩膜版對(duì)預(yù)設(shè)數(shù)量的基板進(jìn)行曝光，并統(tǒng)計(jì)良率；

當(dāng)所述良率滿足預(yù)設(shè)良率條件時(shí)，將所述修復(fù)后掩膜版投入生產(chǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，所述利用所述修復(fù)后掩膜版對(duì)預(yù)設(shè)數(shù)量的基板進(jìn)行曝光，并統(tǒng)計(jì)良率，包括：

利用所述修復(fù)后掩膜版對(duì)第一數(shù)量的基板進(jìn)行曝光，并統(tǒng)計(jì)第一良率；

利用所述修復(fù)后掩膜版對(duì)第二數(shù)量的基板進(jìn)行曝光，并統(tǒng)計(jì)第二良率；

利用所述修復(fù)后掩膜版對(duì)第三數(shù)量的基板進(jìn)行曝光，并統(tǒng)計(jì)第三良率；

其中，所述第一數(shù)量小于所述第二數(shù)量，所述第二數(shù)量小于所述第三數(shù)量。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，所述第一數(shù)量為5組，所述第二數(shù)量為20組，所述第三數(shù)量為100組。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，所述第一遮光色阻為黑色矩陣色阻。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)溫度環(huán)境的溫度為100-220攝氏度。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光配向掩膜版修復(fù)方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)溫度環(huán)境的溫度為180攝氏度。