[發明專利]一種能調整植物根系與營養液面距離的穴盤架及種植盤

在審

• 申請號: 201910007966.0
• 申請日: 2019-01-04
• 公開（公告）號: CN109511542A
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 李晶;閆文凱;張小明;龔化勤;李紹華
• 申請（專利權）人: 福建省中科生物股份有限公司
• 主分類號: A01G31/02
• 分類號: A01G31/02
• 代理公司: 廈門市寬信知識產權代理有限公司 35246
• 代理人: 巫麗青

本發明涉及植物水培裝置領域，具體涉及一種能調整植物根系與營養液面距離的穴盤架及種植盤，通過在穴盤架兩側增加高度調節結構來調節幼苗根系與營養液面的距離，所述高度調節結構設計在穴盤架兩側，包括挖設在穴盤架兩側的凹槽和高度墊塊，凹槽內壁設置有高度墊塊隔檔，所述高度墊塊通過插銷轉動連接在凹槽內壁的安裝孔內，通過轉動至不同位置實現高度調節。本發明結構簡單、合理，既能保證幼苗培育期所需要的養分，又能保證幼苗生長過程中不會造成爛根及長藻，可大量應用于植物水培。

技術領域

本發明涉及植物水培裝置領域，具體涉及一種能調整植物根系與營養液面距離的結構。

背景技術

植物栽培時期，需要將植物根系浸入營養液中，為植物提供生長所必須的養分，而植物工廠中的植物在不同生長階段，例如育苗期、生長較小期和較大期，其根系的大小及尺寸會隨著生長而變化，且其所需要的營養液的深度也不盡相同。例如生長前期需要較深的營養液，以保證剛發出的小根須可接觸到營養液，生長后期需要的營養液較淺，既要保證根系能夠吸收到足夠的水分，又不至于營養液過深，根系接觸的氧氣過少而造成爛根，甚至由于缺氧而導致營養液表面長藻。

現有技術中，為了解決上述問題，通過調整營養液流速、出水口大小及位置等方式調整營養液深度，使得其能夠符合植物根系生長的需求，但隨著植物根系的生長，根系逐漸變長變多，相鄰的根系容易纏繞在一起，從而導致分栽時會損傷根系，不利于生長，成為限制植物生長的一個主要因素。

發明內容

為了解決上述技術問題，實現植物不同生長時期對營養液的不同需求，需要提供一種能夠調整植物根系與營養液面距離變化、保證不同時期植物對營養液的需求和分栽期不會損傷植物根系的可調高度結構。

為實現上述目的，本發明提供了一種能夠調整植物根系與營養液面距離的穴盤架，具體包括以下技術方案：

育苗穴盤架增加有高度調整結構，所述高度調整結構包括挖設在穴盤架兩側的凹槽和高度墊塊，所述高度墊塊轉動連接在凹槽內，且該高度墊塊在凹槽內由第一位置轉動到第二位置或者由第n位置轉動到第n+1位置……第n+i位置實現高度調節,其中n＝1,i∈N⁺。

優選的，高度調整結構設計在穴盤架兩側。

優選的，所述凹槽內設置有高度墊塊隔檔，用于控制高度墊塊在高模式中的位置及角度。

優選的，所述高度墊塊隔檔呈階梯狀設置在凹槽內壁，所述高度墊塊隔檔與所述凹槽一體成型。

優選的，所述高度墊塊截面為多邊形。

優選的，所述高度墊塊截面為梯形，所述第一位置為水平位置，所述第二位置為豎直位置；或者所述高度墊塊截面為矩形、六邊形或者其他多邊形，所述第n位置、第n+1位置、……、第n+i位置均為水平位置。

優選的，所述高度墊塊截面為梯形：該高度墊塊處于水平位置時候，其上下面平行，其遠離高度墊塊隔檔一側為直角，其靠近高度墊塊隔檔的一側為斜面，且該斜面底部與高度墊塊隔檔緊抵,該高度墊塊處于豎直位置時，其左右面平行，其遠離高度墊塊隔檔一側為較大矩形面，其靠近高度墊塊隔檔一側為較小矩形面，且該較小矩形面與高度墊塊隔檔緊抵；或者所述高度墊塊截面為矩形：高度墊塊逆時針旋轉至第一水平位置時，距離旋轉軸較近的短邊位于下方，此時旋轉軸距離模組的距離為a；該高度墊塊處于第二水平位置時，距離旋轉墊塊較遠的長邊位于下方，此時旋轉軸距離模組的距離為b；該高度墊塊處于第三豎直位置時，距離旋轉墊塊較遠的短邊位于下方，此時旋轉軸距離模組的距離為c。或者所述高度墊塊截面為六邊形：高度墊塊順時針旋轉于第一位置時，距離旋轉軸最近的長邊位于下方，此時旋轉軸距離模組的距離為a；該高度墊塊處于第二位置時，距離旋轉墊塊較遠的長邊位于下方，此時旋轉軸距離模組的距離為b；該高度墊塊處于第三位置時，距離旋轉墊塊最遠的長邊位于下方，此時旋轉軸距離模組的距離為c。