[發(fā)明專(zhuān)利]微機(jī)械或納米機(jī)械顆粒檢測(cè)設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910003107.4
• 申請(qǐng)日: 2019-01-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109994364A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 塞巴斯蒂安·海恩茨;馬克·桑薩·佩納
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 原子能和替代能源委員會(huì)
• 主分類(lèi)號(hào): H01J49/04
• 分類(lèi)號(hào): H01J49/04;H01J49/26
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 孟媛;姚開(kāi)麗

1.顆粒檢測(cè)設(shè)備，包括支撐件和能相對(duì)于所述支撐件(2)移動(dòng)的至少一個(gè)可移動(dòng)結(jié)構(gòu)，所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)包括：平臺(tái)(4)，所述平臺(tái)的一個(gè)面至少用于接收待檢測(cè)的顆粒；懸掛裝置(6)，所述懸掛裝置用于懸掛所述平臺(tái)(4)，使得所述平臺(tái)(4)能夠相對(duì)于所述支撐件(2)振動(dòng)；致動(dòng)裝置(8)，所述致動(dòng)裝置用于使所述平臺(tái)(4)以所述平臺(tái)的共振頻率中的至少一個(gè)共振頻率振動(dòng)；檢測(cè)裝置(10)，所述檢測(cè)裝置用于檢測(cè)所述平臺(tái)(4)在給定方向上的位移；所述懸掛裝置(6)包括至少兩個(gè)梁(12.1，12.2，12.3，12.4)，所述至少兩個(gè)梁構(gòu)造成在所述平臺(tái)(4)振動(dòng)時(shí)變形，其中，每個(gè)梁(12.1，12.2，12.3，12.4)具有長(zhǎng)度l、寬度L和厚度e，所述平臺(tái)(4)具有在所述平臺(tái)的位移方向上的尺寸，其中：

-每個(gè)梁在所述平臺(tái)(4)的給定的位移方向上的尺寸比所述平臺(tái)(4)在所述給定的位移方向上的尺寸小至少10倍，以及

-在所述檢測(cè)設(shè)備具有平面內(nèi)模式的情況下，l≥10×L，并且在所述檢測(cè)設(shè)備具有平面外模式的情況下，l≥10×e，

使得在所述平臺(tái)(44)振動(dòng)時(shí)，所述平臺(tái)不會(huì)由于所述梁的作用而變形或變形很小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測(cè)設(shè)備，其中，所述懸掛裝置(6)包括至少一個(gè)第一梁和一個(gè)第二梁，所述第一梁和第二梁相對(duì)于所述位移方向?qū)ΨQ(chēng)布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，所述致動(dòng)裝置(8)位于所述可移動(dòng)結(jié)構(gòu)的外部。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，所述致動(dòng)裝置(8)直接作用在所述平臺(tái)上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，所述致動(dòng)裝置(8)是以所述共振頻率將梯度力施加到所述平臺(tái)的光學(xué)裝置，或者是以所述共振頻率將靜電力施加到所述平臺(tái)的靜電裝置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，至少兩個(gè)梁由壓阻材料例如硅制成，并且其中，所述檢測(cè)裝置包括用于將電位差施加到所述梁的恒定電壓源(14)、用于測(cè)量所述梁的輸出端的電流的測(cè)量裝置(16)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，所述檢測(cè)裝置包括：光學(xué)諧振器(20)，所述光學(xué)諧振器布置在所述平臺(tái)(4)的附近，使得所述平臺(tái)(4)的位移改變所述光學(xué)諧振器(20)的消逝場(chǎng)；波導(dǎo)(18)，所述波導(dǎo)用于將光束注入所述光學(xué)諧振器(20)中并收集從所述光學(xué)諧振器(20)出來(lái)的所述光束。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，包括圍繞所述光學(xué)諧振器布置的多個(gè)可移動(dòng)結(jié)構(gòu)，每個(gè)平臺(tái)的位移改變所述光學(xué)諧振器的消逝場(chǎng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，所述平臺(tái)(4)為矩形，其中兩個(gè)梁(12.1，12.2)被緊固到所述平臺(tái)(4)的具有最大長(zhǎng)度的第一側(cè)部(4.1)并且垂直于所述第一側(cè)部(4.1)，另外兩個(gè)梁(12.3，12.4)被緊固到所述平臺(tái)(4)的具有最大長(zhǎng)度的第二側(cè)部(4.1)并且垂直于所述第二側(cè)部(4.1)，并且其中，所述梁(12.1，12.2，12.3，12.4)是直的并且彼此平行。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，所述梁(12.1，12.2，12.3，12.4)在距離具有最大長(zhǎng)度的第一側(cè)部和第二側(cè)部(4.1)的縱向端部一定距離處被緊固到所述具有最大長(zhǎng)度的第一側(cè)部和第二側(cè)部(4.1)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顆粒檢測(cè)設(shè)備，其中，所述梁由與所述平臺(tái)的材料不同的材料制成。

12.質(zhì)譜儀，包括用于電離分析物的電離裝置、用于聚焦被電離的分析物的聚焦裝置以及布置在所述聚焦裝置的下游處的、至少一個(gè)根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的檢測(cè)設(shè)備。