[其他]用于凈化含有二氧化硫的氣體的設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201890001472.0
• 申請日: 2018-01-08
• 公開（公告）號(hào): CN213492919U
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: K-H·多姆;K·哈瑟旺德;U·瓦格特
• 申請（專利權(quán)）人: 奧圖泰(芬蘭)公司
• 主分類號(hào): B01D53/32
• 分類號(hào): B01D53/32;B01D53/68;B01D53/75;C01B17/56;B01D53/78
• 代理公司: 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 譚冀

1.用于凈化含有SO₂的氣體的設(shè)備，包含至少一個(gè)驟冷塔(10)、至少一個(gè)氣體冷卻塔(30)和至少一個(gè)靜電沉淀器(40,42)，特征在于預(yù)見了至少一個(gè)導(dǎo)管(43,44,45)來排放來自一個(gè)或多個(gè)靜電沉淀器(40,42)的液體相，用于添加反應(yīng)試劑的泵罐(60)和額外的填充床塔(70)，其中該填充床包含二氧化硅。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，特征在于在離開該至少一個(gè)靜電沉淀器(40,42)之前測量氣體中的氟化物濃度并且取決于測量值進(jìn)行以下步驟：

(i)對(duì)于小于50mg F/Nm³的氟化物濃度，添加工藝水和/或

(ii)對(duì)于在50和250mg F/Nm³之間的氟化物濃度，在氣體冷卻塔(30)中和/或在氣體冷卻塔(30)之后添加反應(yīng)試劑和/或

(iii)對(duì)于在200和1000mg F/Nm³之間的氟化物濃度，在第一靜電沉淀器(40)之后將氣體引導(dǎo)通過額外的填充床塔(70)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，特征在于將氣體中F濃度的連續(xù)測量值用于控制和/或調(diào)節(jié)供給到氣體冷卻塔(30)和/或額外的填充床塔(70)的反應(yīng)試劑的量。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，特征在于SiO₂、Na₂SiO₃和/或K₂SiO₃用作反應(yīng)試劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，特征在于在兩個(gè)靜電沉淀器(40,42)之間預(yù)見了安裝在其間的單獨(dú)的逆流型填充床氟化物去除塔。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，特征在于該單獨(dú)的逆流型填充床氟化物去除塔具有塑性填料。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，特征在于該設(shè)備包含導(dǎo)管(61,63)和劑量泵(62)用于將反應(yīng)試劑泵送至氣體冷卻塔(30)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，特征在于經(jīng)凈化的氣體用于生產(chǎn)H₂SO₄。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，特征在于該設(shè)備用于凈化源自于處理或熔煉硫化物非鐵礦石的冶金設(shè)備的含有SO₂的氣體。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，特征在于在驟冷塔(10)和氣體冷卻塔(30)之間預(yù)見的洗滌器(20)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，特征在于該設(shè)備包含用于驟冷塔(10)的導(dǎo)管(24)，將來自洗滌器(20)的部分液體供給至該導(dǎo)管中。