[其他]氣體供應系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201890000891.2 | 申請日: | 2018-05-03 |
| 公開(公告)號: | CN211170883U | 公開(公告)日: | 2020-08-04 |
| 發(fā)明(設計)人: | O·勒韋爾;M·弗勒納;A·伯迪克 | 申請(專利權)人: | 邁爾博爾格(德國)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/448 | 分類號: | C23C16/448 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 張立國 |
| 地址: | 德國霍恩施泰*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 供應 系統(tǒng) | ||
1.氣體供應系統(tǒng),其包括用于液體的質量流量控制器(2)、液體管路、用于將流體從液態(tài)聚集態(tài)轉變成氣態(tài)聚集態(tài)的蒸發(fā)器(3)、氣體管路以及用于將沿流體流動方向流動的流體與載氣混合的混合裝置,所述氣體供應系統(tǒng)(1)沿流體流動方向首先具有所述質量流量控制器(2)、然后具有可被加熱的第一氣體管路(4)并且接著具有所述蒸發(fā)器(3)和所述混合裝置(5),其特征在于,所述可被加熱的第一氣體管路(4)與可被調節(jié)到額定溫度的加熱裝置(19)耦聯(lián),所述額定溫度能預定成,使得在壓力施加在第一氣體管路(4)中時能控制流體的汽化。
2.根據權利要求1所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述混合裝置(5)構成為與所述蒸發(fā)器(3)可分開的由流體氣體管路(6)和載氣管路(7)合并成混合氣體管路(8)的氣體管路合并裝置。
3.根據權利要求2所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,此外沿流動方向設置在所述氣體管路合并裝置下游的均勻化裝置(9)接入所述混合氣體管路(8)中。
4.根據權利要求3所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述均勻化裝置(9)具有螺旋形引導的混合室。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,真空泵(20)與所述可被加熱的第一氣體管路(4)連接,所述真空泵適用于在所述可被加熱的第一氣體管路(4)中設定比所述氣體供應系統(tǒng)(1)的沿流體流動方向在所述可被加熱的第一氣體管路(4)上游的管路區(qū)段小的壓力。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,沿流體流動方向在所述質量流量控制器(2)下游的所有氣體管路與所述加熱裝置(19)耦聯(lián),從而所述沿流體流動方向在所述質量流量控制器(2)下游的所有氣體管路是能被加熱的,其中,溫度沿著流動方向能被調節(jié)到恒定的和/或升高的溫度值。
7.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述氣體供應系統(tǒng)(1)具有液體過濾器(10)和兩個壓力傳感器(11、12),所述兩個壓力傳感器用于測量在流體流過所述液體過濾器(10)時落在所述液體過濾器(10)上的壓差。
8.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述加熱裝置(19)是通用的加熱毯或專門成型的加熱覆蓋件。
9.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述氣體供應系統(tǒng)(1)具有溫度傳感器和控制單元,其中,所述溫度傳感器集成在所述加熱裝置(19)中或裝配在所述加熱裝置(19)與所述可被加熱的第一氣體管路(4)的被加熱的管之間并且適用于給所述控制單元提供用于調節(jié)加熱功率的溫度值。
10.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述蒸發(fā)器(3)和所述混合裝置(5)是組合式裝置。
11.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述混合裝置(5)是T形的或Y形的管路分支或者是對稱的噴嘴布置結構。
12.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述氣體供應系統(tǒng)(1)具有監(jiān)測裝置,所述監(jiān)測裝置適用于確定流過所述質量流量控制器(2)的流體的溫度和密度。
13.根據權利要求1至4中任一項所述的氣體供應系統(tǒng),其特征在于,所述氣體供應系統(tǒng)(1)的所有流體管路均是1/4不銹鋼管,所述不銹鋼管在使用VCR金屬密封件的情況下可脫開地相互連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





