[其他]軋機機架

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201890000687.0
• 申請日: 2018-03-21
• 公開（公告）號: CN212143934U
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M.阿比卡蘭;S.古特布洛澤
• 申請（專利權(quán)）人: 首要金屬科技法國有限責(zé)任公司
• 主分類號: B21B13/14
• 分類號: B21B13/14
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄧雪萌;王麗輝

1.一種軋機機架，其特征在于，其具有一對上部和下部工作輥（CTS，CTI）、一對上部和下部中間輥（CIS，CII）并且配備有通過定位用于行進(jìn)的金屬產(chǎn)品（PM）的軋制的工作輥而用于控制軋制穩(wěn)定性的裝置，包括：

- 所述上部工作輥和下部工作輥（CTS，CTI）各自作用在沿著縱向軸線（X）行進(jìn)的金屬產(chǎn)品的兩個面中的一個面上，

- 用于使所述工作輥相對于垂直軸線（Z）位移的縱向位移裝置，垂直軸線穿過至少一個中間輥，中間輥通過直接接觸而將軋制力傳遞到至少一個工作輥上，縱向軸線（X）和垂直軸線（Z）限定了原點（O）處的交點，工作輥相對于其側(cè)向地位于偏移距離處；

- 用于測量至少一個測量參數(shù)（P）的測量裝置，所述測量參數(shù)被傳送到控制單元（UC），該控制單元向縱向位移裝置提供調(diào)節(jié)信號，

- 測量參數(shù)與至少一個工作輥的物理狀態(tài)相對于先前的物理狀態(tài)的發(fā)散相關(guān)，

- 測量參數(shù)包括由每個工作輥施加在現(xiàn)用測量裝置上的力中的至少一個的至少一個縱向分量值，現(xiàn)用測量裝置聯(lián)接到與所述工作輥實際接觸且承受負(fù)載的位移裝置，

- 上部和下部縱向位移裝置是單獨地可致動的，以便根據(jù)取決于調(diào)節(jié)信號的不相同的各自的偏移（Offs，Offi）重新定位上部和下部工作輥。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋機機架，其中，調(diào)節(jié)信號隨由上部下部工作輥的測量裝置中的每一個分別測得的兩個力的縱向分量的代數(shù)的或算術(shù)的邏輯的變化而變化。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋機機架，其中，調(diào)節(jié)信號隨由上部下部工作輥的測量裝置中的每一個分別測得的兩個力之間的相對力值的變化而變化。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋機機架，其中，調(diào)節(jié)信號隨由上部和下部工作輥的測量裝置中的每一個分別測得的兩個力之間的相加力值的變化而變化。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋機機架，其中，測量參數(shù)包括以下測量值中的至少一個：

- 下部和上部工作輥的縱向位移的至少一個測量值，所述值是相對或絕對類型；

- 施加到上部和下部工作輥上的力矩的至少一個測量值，所述值是相對或絕對類型；

- 在上部和下部工作輥與其側(cè)向支撐輥之間的游隙和接觸的至少一個測量值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋機機架，其中，對于每個輥，至少兩個測量裝置設(shè)置在橫向于產(chǎn)品的縱向行進(jìn)方向的平面中。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋機機架，其中，縱向位移裝置（MD）最少是用于輥的至少一個端部的輥定位元件，最多是以連續(xù)方式設(shè)置在橫向于縱向方向的平面中的一系列輥位移元件。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的軋機機架，其中，位移元件包括用于側(cè)向支撐工作輥的墊塊、輥或滾子，墊塊、輥或滾子在主要沿縱向方向定向的方向的推力下側(cè)向支撐工作輥，所述元件適用于18-Hi或X-HI^?型的機架。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的軋機機架，其中，至少一個游隙距離傳感器設(shè)置在側(cè)向設(shè)置在上部和下部工作輥的兩側(cè)上的四個位移裝置中的每一個中，所述游隙距離傳感器設(shè)置在屬于所述裝置的四個位移梁之間，所述梁中的每一個作用在上部和下部工作輥的四個可移動側(cè)向支撐裝置中的一個上。