[發明專利]用于排隊式基板處理系統的掩模處理模塊和用于掩模傳送的方法

在審

• 申請號: 201880097729.1
• 申請日: 2018-09-19
• 公開（公告）號: CN112740391A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 塞巴斯蒂安·鞏特爾·臧
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;C23C14/50
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種用于排隊式基板處理系統的掩模處理模塊，包括：

真空旋轉腔室，提供于第一真空腔室及第二真空腔室之間的所述排隊式基板處理系統內；

旋轉機構，位于所述真空旋轉腔室內；

第一掩模臺，具有第一掩模保持器組件，且所述第一掩模臺安裝于所述旋轉機構上，以旋轉所述第一掩模臺；

第二掩模臺，具有第二掩模保持器組件，且所述第二掩模臺安裝于所述旋轉機構上，以旋轉所述第二掩模臺；

掩模處理組件，配置成用于所述第一掩模臺及掩模處理腔室之間的第一掩模傳送；

第一基板運輸軌道，與所述第一掩模臺相關聯，所述第一基板運輸軌道配置成用以支撐第一基板載體，所述第一掩模保持器組件配置成用于所述第一掩模臺及所述第一基板載體之間的第二掩模傳送；和

第二基板運輸軌道，與所述第二掩模臺相關聯，所述第二基板運輸軌道配置成用以支撐第二基板載體。

2.如權利要求1所述的掩模處理模塊，其中所述掩模處理組件配置成用于所述第二掩模臺及所述掩模處理腔室之間的第三掩模傳送，并且特別是其中所述第二掩模保持器組件配置成用于所述第二掩模臺及所述第二基板載體之間的第四掩模傳送。

3.如權利要求1至2中任一項所述的掩模處理模塊，所述第一掩模臺及所述第二掩模臺配置成用于支撐在垂直取向狀態的掩模。

4.如權利要求1至3中任一項所述的掩模處理模塊，其中所述排隊式基板處理系統提供排隊式方向，且沿著與所述排隊式方向不同的掩模傳送方向提供所述第一掩模傳送。

5.如權利要求1至4中任一項所述的掩模處理模塊，其中所述旋轉機構包括：

旋轉支撐件及致動器，所述致動器配置成用以在所述真空旋轉腔室內旋轉所述旋轉支撐件。

6.如權利要求5所述的掩模處理模塊，其中所述第一掩模臺及所述第二掩模臺耦接至所述旋轉支撐件上。

7.如權利要求5至6中任一項所述的掩模處理模塊，其中所述第一掩模臺及所述第二掩模臺相對于所述旋轉支撐件為靜止的。

8.如權利要求1至7中任一項所述的掩模處理模塊，所述第一基板運輸軌道包括用于基板載體的載體保持結構，及用于所述基板載體的載體驅動結構。

9.如權利要求8所述的掩模處理模塊，其中所述載體保持結構包括用于非接觸地保持所述基板載體的磁懸浮系統，并且/或所述載體驅動結構包括用于非接觸地驅動所述基板載體的磁驅動系統。

10.如權利要求1至9中任一項所述的掩模處理模塊，所述第一掩模保持器組件和/或所述第二掩模保持器組件包括以下群組的至少一個夾鉗：電磁夾鉗、電磁永久夾鉗和機械夾鉗。

11.如權利要求10所述的掩模處理模塊，其中所述第一掩模保持器組件包括：

夾鉗致動器，配置成用以水平移動所述第一掩模保持器組件的所述至少一個夾鉗。

12.一種用于基板的排隊式處理的真空處理系統，包括：

根據權利要求1至11中任一項所述的掩模處理模塊；

基板裝載區域；和

處理區域。

13.如權利要求12所述的真空處理系統，其中所述基板裝載區域、所述真空旋轉腔室和所述處理區域提供排隊式方向，且沿著與所述排隊式方向不同的掩模傳送方向提供所述第一掩模傳送。

14.如權利要求12至13中任一項所述的真空處理系統，其中所述處理區域包括：

真空旋轉腔室，配置成用以提供順向基板處理方向和逆向基板處理方向。