[發明專利]漿料、研磨液的制造方法以及研磨方法

在審

• 申請號: 201880097112.X
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN112640052A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 長谷川智康;巖野友洋;松本貴彬;久木田友美
• 申請（專利權）人: 昭和電工材料株式會社
• 主分類號: H01L21/304
• 分類號: H01L21/304
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 杜娟

1.一種漿料，其為含有磨粒及液態介質的漿料，其中，

所述磨粒包含第1粒子及與該第1粒子接觸的第2粒子，

所述第1粒子含有鈰氧化物，

所述第2粒子含有鈰化合物，

在所述磨粒的含量為2.0質量％的情況下，以離心加速度1.1×10⁴G對所述漿料進行離心分離30分鐘時，所獲得的固相的BET比表面積為24m²/g以上。

2.根據權利要求1所述的漿料，其中，

所述鈰化合物包含鈰氫氧化物。

3.根據權利要求1或2所述的漿料，其中，

所述磨粒的平均粒徑為16～1050nm。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的漿料，其中，

所述磨粒的含量為0.01～10質量％。

5.一種研磨液的制造方法，其包括對權利要求1至4中任一項所述的漿料進行過濾的工序。

6.一種研磨方法，其包括使用利用權利要求5所述的研磨液的制造方法而獲得的研磨液對被研磨面進行研磨的工序。

7.根據權利要求6所述的研磨方法，其中，

所述被研磨面包含氧化硅。