[發明專利]運算裝置、檢測系統、造型裝置、運算方法、檢測方法、造型方法、運算程序、檢測程序以及造型程序

在審

• 申請號: 201880096653.0
• 申請日: 2018-06-13
• 公開（公告）號: CN112566773A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 竹下孝樹
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康;技術研究組合次世代3D積層造形技術總合開發機構
• 主分類號: B29C64/386
• 分類號: B29C64/386;B22F3/105;B22F3/16;B29C64/153;B33Y30/00;B33Y50/00;B33Y50/02
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;閆劍平

1.一種運算裝置，在從通過照射能量射線對從粉末材料形成的層狀的材料層進行加熱而造型的固化層對三維造型物進行造型的造型裝置中使用，所述運算裝置的特征在于，

具備：

檢測部，求出基于所形成的所述材料層的形狀的所述材料層的狀態；以及

輸出部，其為了設定所述造型裝置的造型條件，輸出與由所述檢測部求出的所述材料層的狀態有關的信息。

2.根據權利要求1所述的運算裝置，其特征在于，

所述材料層的狀態包括形成所述材料層的所述粉末材料的流動性。

3.根據權利要求1或者2所述的運算裝置，其特征在于，

所述材料層的狀態包括所述材料層的平面度、密度、層疊厚度的至少一個。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的運算裝置，其特征在于，

還具有運算部，該運算部基于由所述檢測部求出的所述材料層的狀態，生成用于改變對所述三維造型物進行造型所使用的所述造型條件的變更信息，

所述輸出部輸出所生成的所述變更信息來作為與所述材料層的狀態有關的信息。

5.根據權利要求4所述的運算裝置，其特征在于，

所述運算部生成用于改變針對供給至所述固化層的上部的新的所述粉末材料或者供給至所述固化層的上部的新的所述粉末材料的所述造型條件的所述變更信息。

6.根據權利要求4或者5所述的運算裝置，其特征在于，

所述運算部在對所述三維造型物進行的造型結束之后，生成用于改變針對新造型的三維造型物的所述造型條件的所述變更信息。

7.根據權利要求4～6中任一項所述的運算裝置，其特征在于，

所述運算部將為了對所述材料層進行加熱而對所述材料層照射的所述能量射線的條件作為所述造型條件，生成所述變更信息。

8.根據權利要求7所述的運算裝置，其特征在于，

所述能量射線的條件包括所述能量射線的輸出、所述能量射線的振蕩模式、所述能量射線的波長、所述能量射線的偏振光狀態、所述能量射線的強度分布、照射所述材料層的所述能量射線的光斑尺寸的至少一個條件。

9.根據權利要求7或者8所述的運算裝置，其特征在于，

所述運算部將用于為了對所述材料層進行加熱而掃描所述能量射線的掃描條件來作為所述造型條件，生成所述變更信息。

10.根據權利要求9所述的運算裝置，其特征在于，

所述掃描條件包括所述能量射線的掃描速度、所述能量射線的掃描間距、和所述能量射線的掃描路徑的至少一個條件。

11.根據權利要求4～10中任一項所述的運算裝置，其特征在于，

所述運算部將與收容所述固化層的框體的內部的環境氣體相關聯的條件作為所述造型條件，生成所述變更信息。

12.根據權利要求11所述的運算裝置，其特征在于，

與所述框體的內部的環境氣體相關聯的條件包括導入至所述框體內的非活性氣體的種類、導入至所述框體內的所述非活性氣體的流量、導入至所述框體內的所述非活性氣體的流速、所述框體內的氧濃度、所述框體內的壓力、和所述框體內的溫度的至少一個條件。

13.根據權利要求4～12中任一項所述的運算裝置，其特征在于，

所述運算部將形成所述材料層的材料層形成條件作為所述造型條件，生成所述變更信息。