[發明專利]用于壓花凸紋結構的方法和裝置有效
| 申請號: | 201880096465.8 | 申請日: | 2018-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN112566776B | 公開(公告)日: | 2023-09-29 |
| 發明(設計)人: | C·伯格利;A·徳羅茲;F·盧斯滕伯格 | 申請(專利權)人: | 伯格利-格拉維瑞斯股份有限公司 |
| 主分類號: | B31F1/07 | 分類號: | B31F1/07;B41F19/02;B31B50/88 |
| 代理公司: | 青島聯智專利商標事務所有限公司 37101 | 代理人: | 閻娬斌;匡麗娟 |
| 地址: | 瑞士馬材*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 壓花 結構 方法 裝置 | ||
1.一種在箔材料上壓花單獨反光區域的方法,所述方法包括:
將箔材料送入一對輥之間的輥隙中,其中,所述一對輥包括第一輥和第二輥,
在所述第一輥和所述第二輥中的每一個的至少在確定的周邊中的相應表面處分別為所述第一輥和所述第二輥中的每一個設置多個多面體形狀的正突起和與所述正突起互補的多個負突起,其中,所述確定的周邊包括多個多面體形狀的正突起,
由此,所述多個多面體形狀的正突起根據2維網格布置,
由此,所述多個多面體形狀的正突起中的每一個在遠離所述第一輥的旋轉軸線的方向上從所述第一輥的所述表面處的所述正突起的基礎側向所述正突起的頂側延伸單獨高度,并且每個負突起在朝向所述第二輥的旋轉軸線的方向上從所述第二輥的所述表面向所述負突起的底側延伸;
所述方法的特征在于:
所述多個多面體形狀的正突起在所述箔材料的預期壓花時與那些對應的負突起無縫且無間隙地接合,因此在所述箔材料中實現均勻接合的壓花多面體狀形狀,
并且方法包括:
-?為了在所述箔材料上設置多個反光區域,所述多個反光區域旨在根據所述多個反光區域中的每一個的取向和形狀,與所述2維網格的預定的反射率值的表一致地反射光,以及
-?為了使得用戶的人眼能夠在由來自所述反光區域中的任一個的反射光覆蓋的確定的寬視角上感知所預期的反射光,
針對要設置的所述多個反光區域中的每一個,調節旨在壓花所述反光區域的所述2維網格中的對應的正突起的取向和形狀。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,所述調節的步驟至少包括:
借助應用以下列出的任一個操作,通過脫離確定的基礎形狀來設計所述2維網格的所述多個多面體形狀的正突起中的每一個,所述確定的基礎形狀具有由旨在定位在所述第一輥的所述表面上的基礎周邊界定的基礎表面和由3維形狀輪廓函數描述的3維形狀:
-?通過使所述確定的基礎形狀保持不變來獲得所設計的正突起;
-?沿著所述確定的基礎形狀與單獨形狀的單獨相交處切除所述確定的基礎形狀的頂部,以獲得所述確定的基礎形狀的頂側的單獨形式,該單獨形式用于壓花旨在具有根據所述2維網格的預定的反射率值的所述表的反射率的反光區域,所述確定的基礎形狀的剩余部分是要被定位在所述第一輥的所述表面處的所述所設計的正突起。
3.根據權利要求1所述的方法,其中,所述調節的步驟至少包括:
借助應用以下列出的任一個操作,通過脫離確定的基礎形狀來設計所述2維網格的所述多個多面體形狀的正突起中的每一個,所述確定的基礎形狀具有由旨在定位在所述第一輥的所述表面上的基礎周邊界定的基礎表面和由3維形狀輪廓函數描述的3維形狀:
-?通過使所述確定的基礎形狀保持不變來獲得所設計的正突起;
-?將單獨的3維增益因子函數應用于所述確定的基礎形狀以獲得所設計的正突起,所述所設計的正突起用于壓花旨在具有根據用于所述2維網格的預定的反射率值的所述表的反射率的反光區域,所述單獨的3維增益因子函數被配置為應用于所述3維形狀輪廓函數,使得所述所設計的正突起具有與所述確定的基礎形狀相同的基礎周邊,所述所設計的正突起不具有超出所述基礎周邊重疊的部分,并且所述所設計的正突起的輪廓中的任何點都不與所述輪廓的另一點重疊,以維持旨在定位在所述第一輥的所述表面處的所述確定的基礎形狀的基礎表面,從而導致所述確定的基礎形狀的與單獨的增益因子成比例的總體變形。
4.根據權利要求1所述的方法,其中,所述調節的步驟至少包括:
借助應用以下列出的任一個操作,通過脫離確定的基礎形狀來設計所述2維網格的所述多個多面體形狀的正突起中的每一個,所述確定的基礎形狀具有由旨在定位在所述第一輥的所述表面上的基礎周邊界定的基礎表面和由3維形狀輪廓函數描述的3維形狀:
-?通過使所述確定的基礎形狀保持不變來獲得所設計的正突起;
-?將單獨的3維偏移函數應用于所述確定的基礎形狀以獲得所設計的正突起,所述所設計的正突起用于壓花旨在具有根據用于所述2維網格的預定的反射率值的所述表的反射率的反光區域,所述單獨的3維偏移函數被配置為應用于3維形狀輪廓函數,使得所述3維形狀輪廓函數的每個值潛在地從相應的單獨高度變為對應的修改高度,從而導致所述確定的基礎形狀關于單獨的3維偏移函數的總體變形。
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