[發明專利]X射線熒光分析儀和用于執行X射線熒光分析的方法

在審

• 申請號: 201880094877.8
• 申請日: 2018-04-20
• 公開（公告）號: CN112292593A
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: T·科斯基寧;A·佩里;H·西皮拉
• 申請（專利權）人: 奧圖泰(芬蘭)公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223;B03B13/06;G21K1/06;C22B3/02;G01T1/16
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 聶慧荃;鄭特強

1.一種X射線熒光分析儀，包括：

-X射線管(402)，用于沿第一光軸(204)的方向發射入射X射線(206)，

-漿料處理單元(201)，被配置成維持漿料的樣品(202)與所述X射線管之間的恒定距離，

-第一晶體衍射儀(601)，相對于所述漿料處理單元(201)沿第一方向定位，所述第一晶體衍射儀(601)被配置成從傳播到所述第一方向上的熒光X射線(207)中分離預定第一波長范圍，并且被配置成將處于所分離的預定第一波長范圍內的熒光X射線導向至第一輻射檢測器(602、1505)，

其特征在于：

-所述第一晶體衍射儀(601)包括具有衍射表面(801、803、805)的熱解石墨晶體(603、802、804)，

-所述熱解石墨晶體(603、802、804)的衍射表面(801、803、805)是單連通表面，以及

-所述第一輻射檢測器(602)是固態半導體檢測器。

2.根據權利要求1所述的X射線熒光分析儀，其中，所述熱解石墨晶體(603)的衍射表面(801)僅在一個方向上彎曲。

3.根據權利要求1或2中的任一項所述的X射線熒光分析儀，其中，所述第一晶體衍射儀(601)包括基板，所述熱解石墨晶體(603、802、804)附接至所述基板，并且其中，由所述熱解石墨晶體(603、802、804)和所述基板構成的實體的三維幾何結構是棱鏡的三維幾何結構，所述棱鏡的一個側面被彎曲的所述衍射表面(801、803、805)切掉。

4.根據前述權利要求中的任一項所述的X射線熒光分析儀，其中，所述第一輻射檢測器(602、1505)是以下之一：PIN二極管檢測器，硅漂移檢測器，鍺檢測器，鍺漂移檢測器。

5.根據權利要求1、3或4中的任一項所述的X射線熒光分析儀，其中，所述第一晶體衍射儀包括：

-位于所述漿料處理單元(201)與所述熱解石墨晶體(603、802、804)之間的第一光路(605)上的第一狹縫(604)，以及

-位于所述熱解石墨晶體(603、802、804)與所述第一輻射檢測器(602、1505)之間的第二光路(607)。

6.根據權利要求5所述的X射線熒光分析儀，其中：

-所述熱解石墨晶體(603)的衍射表面(801)僅在一個方向上彎曲，具有位于由所述第一光路(605)和所述第二光路(606)限定的平面中的曲率半徑，以及

-所述第一狹縫(604)是垂直于所述平面定向的線性狹縫。

7.根據權利要求5所述的X射線熒光分析儀，其中：

-所述熱解石墨晶體(802)的衍射表面(803)在兩個方向上彎曲，形成環形表面的一部分，以及

-所述第一狹縫是彎曲狹縫，具有垂直于所述第一光路定向的第一曲率半徑。

8.根據權利要求5所述的X射線熒光分析儀，其中：

-所述熱解石墨晶體(804)的衍射表面(805)在兩個方向上彎曲，形成旋轉對稱表面的一部分，所述旋轉對稱表面的旋轉軸線(806)處于由所述第一光路和所述第二光路限定的平面中，以及

-所述第一狹縫是點狀的。

9.根據權利要求6至8中的任一項所述的X射線熒光分析儀，其中：

-所述第一晶體衍射儀包括位于所述熱解石墨晶體(603、802、804)與所述第一輻射檢測器(602、1505)之間的所述第二光路(607)上的第二狹縫(606)，

-所述衍射表面(801、803、805)的中心點(902)、所述第一狹縫(604)和所述第二狹縫(606)都位于半徑為R的羅蘭圓上，

-所述衍射表面(801、803、805)的位于由所述第一光路和所述第二光路限定的平面中的曲率半徑為2R，以及

-所述晶體(603、802、804)中的網狀平面(901)的曲率半徑為2R；

使得所述第一晶體衍射儀具有約翰幾何結構。