[發明專利]成像數據處理裝置

有效

• 申請號: 201880093329.3
• 申請日: 2018-05-30
• 公開（公告）號: CN112136041B
• 公開（公告）日: 2023-06-16
• 發明（設計）人: 山口真一
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62;G01N27/623
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

圖像制作部(33)制作與相同的試樣上的測定區域有關的每m/z的MS成像圖像和光學圖像，圖像位置對準處理部(34)使分辨率一致并且進行圖像位置對準?；貧w分析執行部(35)將基于MS成像數據的矩陣設為解釋變量，將基于光學圖像制作的以每個像素的亮度值為元素的矩陣設為被解釋變量，執行PLS，來制作回歸模型。圖像制作部(33)將解釋變量、即MS成像數據的各像素中的每個質荷比值的信號強度值應用于回歸模型，來制作預測圖像。顯示處理部(39)將參照圖像和預測圖像顯示在顯示部(5)的畫面上。由此，作業者能夠確認MS成像圖像與光學圖像的分布的類似性的程度。其結果，能夠評價所制作出的回歸模型的準確性。

技術領域

本發明涉及一種成像數據處理裝置，該成像數據處理裝置利用成像質譜分析裝置等對在試樣上的二維的測定區域內的許多微小區域中分別獲得的數據進行處理，由此能夠制作示出該試樣中的特定物質的二維分布的圖像或者導出關于該試樣的有用的信息。

背景技術

成像質譜分析裝置是能夠一邊通過光學顯微鏡觀察生物體組織切片等試樣的表面的形態一邊對相同的試樣表面上的具有特定質荷比m/z的離子的二維的強度分布進行測定的裝置(參照非專利文獻1)。通過使用成像質譜分析裝置觀察與在例如癌癥等特定疾病中特征性地出現的源自化合物的離子有關的二維強度分布圖像(質譜分析成像圖像)，能夠掌握該疾病的擴散情況等。因此，近年來，盛行以下研究：利用成像質譜分析裝置來對以生物體組織切片等為對象的藥物動態解析或各器官中的化合物分布的不同、或者癌癥等的病理部位與正常部位之間的化合物分布的差異等進行解析。

一般來說，具有某個質荷比的離子的二維強度分布示出特定物質的分布，因此，能夠基于質譜分析成像圖像，來獲得例如與特定疾病相關聯的化合物，即生物標記物在生物體組織內如何分布等之類的有用的信息。但是，在成像質譜分析裝置中獲得的數據的量龐大，在作為觀察對象的化合物的種類不明的情況下，作業者在調查哪一個質荷比下的質譜分析成像圖像是有用的信息上需要很大的勞力。

對于這樣的課題，在專利文獻1中記載有：對通過光學顯微鏡獲得的光學圖像、熒光圖像等參照圖像與任意質荷比下的質譜分析成像圖像進行圖像的位置對準和空間分辨率的調整，之后，對兩個圖像的相同位置的像素的數據執行統計解析處理，計算表示兩個圖像的分布的類似性的指標值。另外，在該文獻中記載有利用偏最小二乘回歸(PartialLeast?Squares?resgression＝PLS)等回歸分析作為統計解析方法。在該方法中，由于質譜分析成像圖像與參照圖像的二維分布的相關性越高，PLS的分數越高，因此能夠推定具有賦予該分數高的質譜分析成像圖像的質荷比的離子呈接近參照圖像的二維強度分布。這些信息是在探索生物標記物的方面非常重要的信息。

另外，在本申請人先申請的PCT/JP2018/003757號中記載有：將基于針對試樣收集到的遍及規定質荷比范圍的質譜分析成像數據來制作出的二維矩陣設為解釋變量，將基于參照圖像的像素值數據來制作出的一維矩陣設為被解釋變量(目標變量)，執行PLS回歸分析，來求出回歸系數的一維矩陣，根據其結果來制作表示質荷比與回歸系數之間的關系的譜狀的曲線圖并進行顯示。如果觀察該曲線圖，則一眼就知曉回歸系數的絕對值大的質荷比，因此，作業者能夠容易地發現示出接近參照圖像的二維強度分布的質荷比。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：國際公開第2017/002226號刊

非專利文獻

非專利文獻1：“iMScopeTRIOイメージング質量顕微鏡”、[在線]、[平成30年3月28日檢索]、株式會社島津制作所、因特網＜URL:https://www.an.shimadzu.co.jp/bio/imscope/＞。

發明內容

發明要解決的問題