[發(fā)明專利]測量裝置及測量方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880091640.4
• 申請日: 2018-03-26
• 公開（公告）號: CN111903188B
• 公開（公告）日: 2023-07-04
• 發(fā)明（設計）人: 犬塚真博
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;C23C14/04;G09F9/30;H10K50/10;H10K59/10;G09F9/00
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權代理有限公司 44334
• 代理人: 葉乙梅

一種用于測量包含磁體的金屬板(10)的外形的測量裝置(100)，其具備：放置臺(1)，金屬板(10)放置在其表面上；光源(2)，其朝向放置臺(1)照射光；圖像獲取部(3)，其獲取金屬板(10)的圖像；多個磁力生成部(4、6)，其在放置臺(1)的背面?zhèn)犬a(chǎn)生磁力；控制部(7)，其控制磁力的產(chǎn)生位置。

技術領域

本發(fā)明涉及一種測量包含磁體的金屬板的外形的測量裝置及測量方法。

背景技術

包含在顯示設備(有機EL顯示器、無機EL顯示器、或Q?LED顯示器等)的制造工序的蒸鍍步驟中，通常，使用掩膜片來控制蒸鍍圖案。

掩膜片中，存在多個對應于顯示設備的像素的數(shù)μm尺寸的開口，有必要確定開口相對于設計值的位置偏移程度。將該位置偏移的測量稱為PPA測量(Pixel?PositionAccuracy；像素位置精度)。

通常，通過以下步驟進行PPA測量。首先，將掩膜片放置在放置臺上。接下來，通過設置在四個角上的抓持器分別抓住并拉伸掩膜片的四個角。并且，用照相機拍攝掩膜片并測量PPA。

在掩膜片內的有源區(qū)域(像素區(qū)域)的內部和外部的膜厚不同。通過化學蝕刻形成的有源區(qū)的內部的膜厚薄。因此，在有源區(qū)域中可能會產(chǎn)生皺褶和/或波紋(以下簡稱為“皺褶”)。如果存在該皺褶，則難以準確地測量PPA。因此，將掩膜片拉伸并去除皺褶，然后測量PPA。

專利文獻1中公開了通過抓持器來拉伸掩膜片的構成。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本公開專利公報「特開2008-66269號公報」

發(fā)明內容

本發(fā)明要解決的問題

但是，上述的現(xiàn)有方法存在如下問題。

當通過抓持器抓住掩膜片，在掩膜片上殘留夾痕。在檢測工序之后將掩膜片拉伸焊接至框架時，以比在檢測工序中受到的力更大的力拉伸掩膜片。其結果，存在掩膜片在夾痕的起點處斷開的情況。此外，取決于PPA測量前的掩膜片的對準條件，在掩膜片中產(chǎn)生比檢測后的拉伸工序及/或焊接工序更大的張力。

進一步，拉伸掩膜片引起發(fā)生如下問題：(1)膜厚薄的有源區(qū)域受到損傷；(2)產(chǎn)生有源區(qū)域的位置偏移；(3)有源區(qū)域的開口擴大。該情況下，難以準確地測量掩膜片的外形。

本發(fā)明是鑒于上述問題點而完成的，其目的是實現(xiàn)一種能夠準確地測量包含磁體的金屬板的外形的測量裝置及測量方法。

用于解決問題的方案

為了解決上述問題，本發(fā)明涉及的測量裝置是用于測量包含磁體的金屬板的外形的測量裝置，其具備：放置臺，所述金屬板放置在其表面上；光源，其朝向所述放置臺照射光；圖像獲取部，其獲取所述金屬板的圖像；多個磁力產(chǎn)生部，其在所述放置臺的背面?zhèn)犬a(chǎn)生磁力；控制部，其控制所述磁力的產(chǎn)生位置。

根據(jù)上述構成，包含磁體的所述金屬板和所述磁力產(chǎn)生部在所述磁力的產(chǎn)生位置處通過磁力相互吸引，并且所述金屬板被固定(臨時固定)在所述放置臺上。并且，在將所述金屬板固定在所述放置臺的狀態(tài)下，所述控制部控制所述磁力的產(chǎn)生位置，能夠通過磁力來拉伸所述金屬板。由此，能夠減少例如在金屬板上產(chǎn)生的皺褶及/或波紋。其結果，所述測量裝置能夠準備地測量金屬板的外形。

進一步，根據(jù)所述構成，無需為了拉伸所述金屬板而用抓持器等抓住所述金屬板的端部，因此，在所述金屬板上不會殘留夾痕。因此，在測量所述金屬板的外形之后的工序中，所述金屬板不會在所述夾痕的起點處斷開。