[發(fā)明專利]激光退火裝置、激光退火方法以及有源矩陣基板的制造方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880090243.5
• 申請(qǐng)日: 2018-03-07
• 公開（公告）號(hào): CN111788658A
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 野寺伸武;井上智博;小巖真司;道中悟志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 堺顯示器制品株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/268
• 分類號(hào): H01L21/268;H01L21/20;H01L21/336;H01L29/786
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334
• 代理人: 王娟

1.一種激光退火裝置，其特征在于，具有：

載物臺(tái)，其具有容納基板的容納面；以及

激光照射裝置，其向所述容納面射出多個(gè)激光束，并在所述容納面形成照射區(qū)域，

所述激光照射裝置具有：

激光裝置，其射出激光束；以及

聚光單元，其具有微透鏡陣列和掩膜，接受從所述激光裝置中射出的所述激光束，并在所述照射區(qū)域內(nèi)形成所述多個(gè)激光束各自的聚光點(diǎn)，所述微透鏡陣列具有排列成m行n列的多個(gè)微透鏡，所述掩膜具有多個(gè)開口部，其中每個(gè)開口部是針對(duì)所述多個(gè)微透鏡中每一個(gè)配置的，

所述多個(gè)激光束是由排列成所述m行n列的所述多個(gè)微透鏡中的p行q列的微透鏡來(lái)形成的p行q列的激光束，其中，p＜m或q＜n，

所述激光照射裝置還具有擺動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述擺動(dòng)機(jī)構(gòu)改變所述聚光單元和所述照射區(qū)域之間的配置關(guān)系，使得從排列成所述m行n列的所述多個(gè)微透鏡中能夠選擇至少2個(gè)不同的p行q列的微透鏡組。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光退火裝置，其特征在于，所述激光束大到能夠照射比排列成所述m行n列的所述多個(gè)微透鏡中的p行q列的微透鏡更多的微透鏡，

所述激光照射裝置還具有遮光板，所述遮光板具有劃定所述照射區(qū)域的透光部，

所述透光部具有與排列成所述m行n列的所述多個(gè)微透鏡中的p行q列的微透鏡對(duì)應(yīng)的面積，其中p＜m或q＜n。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光退火裝置，其特征在于，所述遮光板配置在所述激光裝置與所述聚光單元之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光退火裝置，其特征在于，所述遮光板配置在所述聚光單元與所述基板之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的任一項(xiàng)所述的激光退火裝置，其特征在于，所述擺動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述聚光單元相對(duì)于所述照射區(qū)域的位置在與所述激光照射裝置的掃描方向正交的擺動(dòng)方向上移動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的任一項(xiàng)所述的激光退火裝置，其特征在于，所述擺動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述聚光單元相對(duì)于所述照射區(qū)域的位置在所述激光照射裝置的掃描方向上移動(dòng)。

7.一種激光退火方法，其是通過(guò)使多個(gè)激光束依次聚集在非晶硅膜的多個(gè)區(qū)域內(nèi)，從而形成排列成M行N列的多個(gè)晶硅島的方法，其特征在于，包括：

工序A：準(zhǔn)備載物臺(tái)和激光照射裝置，所述載物臺(tái)具有容納基板的容納面，所述激光照射裝置向所述容納面射出多個(gè)激光束，并在所述容納面上形成照射區(qū)域，具有激光裝置和聚光單元，所述激光裝置射出激光束，所述聚光單元具有微透鏡陣列和掩膜，所述微透鏡陣列具有排列成m行n列的多個(gè)微透鏡，所述掩膜具有多個(gè)開口部，其中每個(gè)開口部是針對(duì)多個(gè)微透鏡中的每一個(gè)而配置的；

工序B1：在所述容納面上配置表面具有非晶硅膜的基板；以及

工序C1：使用所述激光照射裝置，通過(guò)排列成所述m行n列的所述多個(gè)微透鏡中的p行q列或t行q列的微透鏡形成p行q列或t行q列的激光束作為所述多個(gè)激光束，同時(shí)在所述非晶硅膜的所述多個(gè)區(qū)域內(nèi)形成所述多個(gè)激光束各自的聚光點(diǎn)，其中，p≤m且q≤n，t＜p；以及

工序C2：在所述工序C1之后，使所述基板相對(duì)于所述照射區(qū)域沿列方向相對(duì)地移動(dòng)一個(gè)間距，

所述方法包括工序D：包括在所述工序C1之后進(jìn)行所述工序C2，然后再進(jìn)行所述工序C1的時(shí)序，在成為排列成所述M行N列的所述多個(gè)晶硅島的多個(gè)區(qū)域中的每一個(gè)中形成p次與每個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的聚光點(diǎn)，

在M行q列的所有區(qū)域內(nèi)形成所述多個(gè)激光束的聚光點(diǎn)之前，進(jìn)行至少1次工序C3，所述工序C3：在所述工序C1之后，使用于對(duì)屬于所述多個(gè)區(qū)域中的某一列的M個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域形成p次聚光點(diǎn)的p個(gè)微透鏡組與用于對(duì)所述M個(gè)區(qū)域中的另一個(gè)區(qū)域形成p次聚光點(diǎn)的p個(gè)微透鏡組至少有1個(gè)微透鏡不同。