[發明專利]具有雙重結構的三維目標、具有該三維目標的光學測量裝置和方法

有效

• 申請號: 201880090072.6
• 申請日: 2018-11-29
• 公開（公告）號: CN112119280B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: P·雅科;S·拉波特
• 申請（專利權）人: 驅動責任資金投入公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;B23Q17/22
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 代易寧;王麗輝

1.能夠用作定位參考的三維目標(200)，其在有用面(202)上包括：

*限定平面參考面(212)的第一結構(210)，所述平面參考面在至少以下部分之間分配：

-第一部分(214)，其表面根據第一反射參數是反射性的，和

-第二部分(216)，其表面根據不同于所述第一反射參數的第二反射參數是反射性的，所述第二部分(216)根據定位于所述第一部分(214)中的一系列局部區域(217)而分配，以及

*第二結構(220)，其具有相對于所述平面參考面(212)的傾斜面(222)，所述傾斜面(222)基本上是平面的，其中，所述傾斜面(222)的表面具有均勻分布的凹凸元件(224)抑或鏡面元件(225)。

2.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述局部區域(217)在它們之間限定四邊形。

3.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述局部區域(217)在它們之間限定平行四邊形。

4.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述局部區域(217)在它們之間限定屬于以下列名單中的一種的幾何圖形：矩形、正方形、菱形。

5.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述局部區域(217)在它們之間限定正多邊形。

6.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述局部區域(217)在它們之間限定圓形。

7.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述第二部分的所述局部區域(217)由分布在所述第一部分(214)中的島或段形成。

8.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述局部區域由鉻制成。

9.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述傾斜面(222)的表面具有均勻分布的凹凸元件(224)。

10.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述第一結構(210)和所述第二結構(220)彼此同心地位于所述有用面(202)上。

11.根據權利要求10所述的三維目標(200)，其中，所述第一結構(210)圍繞所述第二結構(220)。

12.根據權利要求11所述的三維目標(200)，其中，所述第一結構(210)的第二部分(216)的局部區域限定圍繞所述第二結構(220)的正方形。

13.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述第一結構(210)界定用于容納所述第二結構(220)的殼體(219)的孔(218)。

14.根據權利要求13所述的三維目標(200)，其中，所述第二結構定位在所述殼體(219)中，使傾斜面(222)相對于所述第一結構(210)的平面參考面(212)縮回。

15.根據權利要求1所述的三維目標(200)，其中，所述第二結構(220)的所述傾斜面(222)的表面是帶有條紋的。

16.根據權利要求15所述的三維目標(200)，其中，所述第二結構(220)的所述傾斜面(222)的表面被以下元件之一覆蓋：蝕刻的網絡、結構化網格、鏡面線的網絡。

17.根據權利要求1所述的三維目標(200)，所述三維目標(200)還包括由透明材料制成的板(230)，其覆蓋所述有用面(202)一側上的所述第一結構(210)和所述第二結構。