[發明專利]質譜分析方法及質譜分析裝置

在審

• 申請號: 201880088758.1
• 申請日: 2018-11-21
• 公開（公告）號: CN111684272A
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發明（設計）人: 高橋秀典
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種質譜分析方法，其特征在于，其為由源自具有烴鏈的試樣成分的前體離子生成產物離子并進行質譜分析的質譜分析方法，其中，

對于所述前體離子，照射氫自由基以外的具有氧化能力的自由基、或/和具有還原能力的自由基而生成產物離子，

將所述產物離子根據質荷比進行分離并檢測，

基于所述檢測的產物離子的質荷比及強度來推斷所述烴鏈的結構。

2.一種質譜分析裝置，其特征在于，其為由源自具有烴鏈的試樣成分的前體離子生成產物離子并進行質譜分析的質譜分析裝置，其具備：

反應室，其用于導入所述前體離子；

自由基生成部，其用于生成氫自由基以外的具有氧化能力的自由基、或/和具有還原能力的自由基；

自由基照射部，其用于將由所述自由基生成部生成的自由基照射到所述反應室的內部；以及，

分離檢測部，其用于將通過與所述自由基的反應而由所述前體離子生成的產物離子根據質荷比進行分離并檢測。

3.根據權利要求2所述的質譜分析裝置，其特征在于，具備結構推斷部，其用于基于所述檢測的產物離子的質荷比及強度來推斷所述烴鏈的結構。

4.根據權利要求2所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述自由基生成部生成羥基自由基和氧自由基中的至少一者。

5.根據權利要求2所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述自由基生成部生成氮自由基。

6.根據權利要求2所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述自由基生成部由包含水蒸氣、氮氣和空氣中的至少1種的原料氣體生成自由基。

7.根據權利要求2所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述自由基生成部具備：

自由基生成室；

真空排氣部，其用于對所述自由基生成室進行排氣；

原料氣體供給源，其用于向所述自由基生成室中導入原料氣體；以及

真空放電部；其用于使所述自由基生成室中發生真空放電。

8.根據權利要求7所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述真空放電部為高頻等離子體源、空心陰極等離子體源、或磁約束型等離子體源。

9.根據權利要求2所述的質譜分析裝置，其特征在于，還具備熱供應部，其用于對導入到所述反應室中的前體離子施加熱。

10.根據權利要求2所述的質譜分析裝置，其特征在于，還具備加熱部，其設置于所述原料氣體供給源、所述反應室、及自該原料氣體供給源至該反應室的流路中的至少一者，用于對所述原料氣體進行加熱。

11.根據權利要求3所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述結構推斷部通過搜索由所述前體離子在所述烴鏈中所含的不飽和鍵的位置解離而生成的產物離子，從而推斷該不飽和鍵的位置。

12.根據權利要求3所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述結構推斷部通過搜索由所述前體離子在所述烴鏈中所含的碳-碳鍵的位置解離而生成的產物離子，從而推斷所述試樣成分中的該烴鏈的鍵合位置。

13.根據權利要求12所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述結構推斷部通過提取質量差為12Da或14Da的產物離子的組，從而推斷所述烴鏈的結構。

14.根據權利要求3所述的質譜分析裝置，其特征在于，所述試樣成分是在烴鏈中鍵合結構或結構候選已知的物質而成的，所述質譜分析裝置還具備收錄有與所述結構或結構候選相關的信息的化合物數據庫，

所述結構推斷部根據所述檢測的產物離子的質荷比、以及收錄于所述化合物數據庫的與所述結構或結構候選相關的信息來推斷所述試樣成分的結構。