[發明專利]基于吡啶酮的表觀遺傳修飾劑及其用途

有效

• 申請號: 201880088137.3
• 申請日: 2018-12-01
• 公開（公告）號: CN111727189B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: G·R·撒切爾;熊瑞;趙颎;李洋峰
• 申請（專利權）人: 伊利諾伊大學董事會
• 主分類號: C07D487/04
• 分類號: C07D487/04;A61K31/4375;A61P35/00
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 韋昌金;武晶晶

1.一種根據式XXV的化合物

其中R₁是

其中R₂是

其中R₃是H、CH₃或CH₂CH₃，并且

其中X₁、X₂和X₃各自獨立地選自由以下組成的組：C或N。

2.如權利要求1所述的化合物，其中所述化合物選自由以下組成的組：(70)、(71)、(72)、(73)、(74)、(126)、(130)、(131)和(132)。

3.一種根據式XXIV的化合物

其中R₁和R₂各自獨立地選自CH₃或H，

其中R₃是CH₃或CH₂CH₃，并且

其中X是C或N。

4.如權利要求3所述的化合物，其中所述化合物選自由以下組成的組：(22)、(23)、(30)和(31)。

5.一種根據式XXVI的化合物

其中R₁₂是C₁-C₃烷基、C₁-C₃鹵代烷基、丙烯基、-CH₂(CO)CH＝CH₂、環氧乙-2-基甲基或-CH₂(CO)CH₂Cl，

其中R₁₁是含氮雙環或三環雜芳基、芳基或聯芳基，其中的每一個任選地被1個、2個或3個取代基取代，所述取代基各自獨立地選自由以下組成的組：-N(R^a)S(O)₂R^b、-S(O)₂NR^aR^b、-C(O)NR^aR^b、-N(R^a)C(O)R^b、-NR^aR^b、-(C₁-C₆亞烷基)R^c、-(C₁-C₃亞環烷基)R^c、芳基、雜芳基、和-(C₁-C₆亞烷基)R^cR^c’、-H、鹵素、-CN、丙烯基、C₁-C₃烷基、C₁-C₃鹵代烷基、-OR₇₀、-NR₇₀R₇₀、-C(O)OR₇₀、-C(O)NR₇₀R₇₀、-S(O)₂R₇₀、-S(O)₂NR₇₀R₇₀、-CH₂(CO)CH＝CH₂、環氧乙-2-基甲基、和-CH₂(CO)CH₂Cl以及R₇₀，

其中X是任選地存在的，并且當存在時，選自-O-、-C(O)-、-N(R₇₇)-和-CH(R₇₀)-，

R₇₇選自由以下組成的組：–H、鹵素、-CN、C₁-C₃鹵代烷基、-OR₇₀、-NR₇₀R₇₀、-C(O)OR₇₀、-C(O)NR₇₀R₇₀、-S(O)₂R₇₀、-S(O)₂NR₇₀R₇₀和R₇₀，

其中R₇₀在每次出現時各自獨立地選自由以下組成的組：C₁-C₆烷基、C₂-C₆烯基、C₂-C₆炔基、鹵素、C₁-C₆鹵代烷基、-CN、-NO₂、-OR^e、-S(O)₂NR^eR^f、-C(O)R^e、-C(O)NR^eR^f、-NR^eR^f、-N(R^e)C(O)R^f、-(C₁-C₆亞烷基)-OR^e、-(C₁-C₆亞烷基)-C(O)NR^eR^f、-(C₁-C₆亞烷基)-NR^eR^f和-(C₁-C₆亞烷基)-N(R^e)C(O)R^f，

其中R^a和R^b在每次出現時獨立地選自由以下組成的組：H、C₁-C₆烯基、C₁-C₆炔基、C₁-C₆鹵代烷基、R^c和C₁-C₆烷基，其中所述C₁-C₆烷基任選地被一個選自由以下組成的組的取代基取代：-OR^e、-NR^eR^f、-C(O)OR^e、-C(O)NR^eR^f、-S(O)₂R^e、-S(O)₂NR^eR^f和R^c，

其中R^c和R^c’在每次出現時各自獨立地選自由以下組成的組：芳基、雜芳基、雜環、環烷基和環烯基，并且其中每一個R^c基團任選地被1個、2個、3個、4個或5個R^d基團取代，

其中R^d在每次出現時各自獨立地選自由以下組成的組：C₁-C₆烷基、C₂-C₆烯基、C₂-C₆炔基、鹵素、C₁-C₆鹵代烷基、-CN、-NO₂、-OR^e、-S(O)₂NR^eR^f、-C(O)R^e、-C(O)NR^eR^f、-NR^eR^f、-N(R^e)C(O)R^f、-(C₁-C₆亞烷基)-OR^e、-(C₁-C₆亞烷基)-C(O)NR^eR^f、-(C₁-C₆亞烷基)-NR^eR^f和-(C₁-C₆亞烷基)-N(R^e)C(O)R^f，

并且其中R^e和R^f在每次出現時各自獨立地選自由以下組成的組：H、C₁-C₆烷基、C₁-C₆環烷基、芳基、雜芳基和C₁-C₆鹵代烷基。