[發(fā)明專利]用于下流式反應(yīng)器的污垢收集裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880087362.5
• 申請(qǐng)日: 2018-12-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111655350A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐占平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 環(huán)球油品有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): B01D24/22
• 分類號(hào): B01D24/22;B01J8/00;B01J19/24
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種反應(yīng)器，所述反應(yīng)器包括上部部分和下部部分，其中所述上部部分包含入口噴嘴和污垢收集裝置，其中過(guò)濾區(qū)域位于粗液體分配托盤(pán)上方并且其中蒸氣-液體分配托盤(pán)位于所述粗液體分配托盤(pán)下方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述下部部分包含催化劑床。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述下部部分包含介質(zhì)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述下部部分包含填料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過(guò)濾區(qū)域包含具有相同物理和化學(xué)性質(zhì)的一層過(guò)濾材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過(guò)濾區(qū)域包含具有不同物理和化學(xué)性質(zhì)的多層過(guò)濾材料。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過(guò)濾區(qū)域包含多孔陶瓷顆粒。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中填料床支撐板為所述粗液體分配托盤(pán)上方的空間。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的反應(yīng)器，其中所述填料床支撐板包括用于液體流動(dòng)的環(huán)形穿孔。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述蒸氣-液體分配托盤(pán)包括多個(gè)分配器。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述粗液體分配托盤(pán)包含孔，所述孔的尺寸被設(shè)定成在所述粗液體分配托盤(pán)上產(chǎn)生期望的液位。

12.一種設(shè)備，所述設(shè)備包括上部部分和下部部分，其中所述上部部分包含入口噴嘴和污垢收集裝置，其中過(guò)濾區(qū)域位于粗液體分配托盤(pán)上方并且其中蒸氣-液體分配托盤(pán)位于所述粗液體分配托盤(pán)下方，其中所述蒸氣-液體分配托盤(pán)包括多個(gè)分配器，并且其中所述下部部分包含催化劑床。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中所述粗液體分配托盤(pán)包含孔，所述孔的尺寸被設(shè)定成在所述粗液體分配托盤(pán)上產(chǎn)生期望的液位。