[發明專利]用于光伏器件的層結構和包括其的光伏器件在審
| 申請號: | 201880086779.X | 申請日: | 2018-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN111656534A | 公開(公告)日: | 2020-09-11 |
| 發明(設計)人: | 陳樂;J.郭;D.維斯 | 申請(專利權)人: | 第一陽光公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/073;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 童春媛;彭昶 |
| 地址: | 美國亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 器件 結構 包括 | ||
1.一種用于光伏器件的層結構,所述層結構包括:
包括氧化錫銦的透明導電氧化物層;
鄰近透明導電氧化物層的氧化錫銦的二氧化錫層;和
鄰近二氧化錫層的氧化鎂鋅層,其中氧化鎂鋅層為氧化鋅和氧化鎂的合金。
2.權利要求1的層結構,其中合金包含比氧化鎂更多的氧化鋅。
3.權利要求2的層結構,其中合金中氧化鋅與氧化鎂之比大于2:1。
4.權利要求1的層結構,其中二氧化錫為本征二氧化錫。
5.權利要求1的層結構,其中二氧化錫層的厚度小于約150nm。
6.權利要求1的層結構,其中氧化鎂鋅層的厚度小于約100nm。
7.權利要求6的層結構,其中二氧化錫層的厚度大于或等于氧化鎂鋅層的厚度。
8.權利要求7的層結構,其中二氧化錫層的厚度與氧化鎂鋅層的厚度之比在約1和約15之間。
9.權利要求7的層結構,其中二氧化錫層的厚度和氧化鎂鋅層的厚度之和小于或等于約200nm。
10.權利要求1的層結構,其中二氧化錫層鄰近透明導電氧化物層的氧化錫銦。
11.權利要求1的層結構,其中透明導電氧化物層中銦與錫之比大于約3:2。
12.一種光伏器件,所述光伏器件包括:
包括氧化錫銦的透明導電氧化物層;
在透明導電氧化物層的氧化錫銦上布置的二氧化錫層;
鄰近二氧化錫層的氧化鎂鋅層,其中氧化鎂鋅層為氧化鋅和氧化鎂的合金;和
在氧化鎂鋅層上布置的吸收層,其中吸收層包括鎘、碲、硒或其任何組合。
13.權利要求12的吸收層,其中吸收層包括鎘、硒和碲的三元材料。
14.權利要求12的吸收層,其中吸收層包含在吸收層中平均原子濃度小于約6 x 10-17個原子/cm3的擴散量的銦。
15.權利要求1和12至14中任一項的層結構或光伏器件,其中合金包含比氧化鎂更多的氧化鋅。
16.權利要求1和12至15中任一項的層結構或光伏器件,其中合金中氧化鋅與氧化鎂之比大于2:1。
17.權利要求1和12至16中任一項的層結構或光伏器件,其中二氧化錫為本征二氧化錫。
18.權利要求1和12至17中任一項的層結構或光伏器件,其中二氧化錫層的厚度小于約150nm。
19.權利要求1和12至18中任一項的層結構或光伏器件,其中氧化鎂鋅層的厚度小于約100nm。
20.權利要求1和12至19中任一項的層結構或光伏器件,其中二氧化錫層的厚度大于或等于氧化鎂鋅層的厚度。
21.權利要求1和12至20中任一項的層結構或光伏器件,其中二氧化錫層的厚度與氧化鎂鋅層的厚度之比在約1和約15之間。
22.權利要求1和12至21中任一項的層結構或光伏器件,其中二氧化錫層的厚度和氧化鎂鋅層的厚度之和小于或等于約200nm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





