[發明專利]用于蒸汽-固體混合的多方向裝置

有效

• 申請號: 201880085959.6
• 申請日: 2018-11-29
• 公開（公告）號: CN111565835B
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發明（設計）人: P·馬錢特;R·K·辛格
• 申請（專利權）人: 特恩工藝技術股份有限公司
• 主分類號: B01J19/32
• 分類號: B01J19/32;B01J8/44
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;韓爍

1.一種填料系統，包括至少一個元件結構，所述元件結構包括多個平面薄片構件，每個薄片構件具有平面以提供沿著所述平面的氣固流動方向，并且所述薄片構件布置在交替的相交平面中以在交替的相交薄片構件之間或附近提供多個開放空間，交替的相交薄片構件的平面為元件結構提供至少兩個不同的氣固流動方向，并且至少一個薄片構件包括至少一個分裂部，所述至少一個分裂部將所述薄片構件分成至少第一分裂薄片構件部區段和至少第二分裂薄片構件部區段，其中，每個分裂薄片構件部區段具有平面，并且所述分裂部提供用于通向所述開放空間的區域，第二分裂薄片構件部區段的平面偏移到與第一分裂薄片構件部區段的平面平行并位于第一分裂薄片構件部區段上方或下方的平面。

2.根據權利要求1所述的填料系統，其包括至少四個元件結構，其中，每個相鄰元件結構定位成使得每個相鄰元件結構的氣固流動方向是不同的。

3.根據權利要求2所述的填料系統，其中，每個相鄰元件結構的氣固流動方向與每個相鄰元件結構成90度角定位。

4.根據權利要求1所述的填料系統，其中，多個元件結構定位成使得所述氣固流動方向不同于每個相鄰元件結構。

5.根據權利要求1所述的填料系統，其中，所述薄片構件具有至少兩個分裂部和至少第三分裂薄片構件部區段，所述第三分裂薄片構件部區段具有平面，并且所述第三分裂薄片構件部區段的平面與所述第一分裂薄片構件部區段和/或第二分裂薄片構件部區段的平面共面，或者，第三分裂薄片構件部區段的平面偏移到與第一分裂薄片構件部區段和/或第二分裂薄片構件部區段的平面平行并位于第一分裂薄片構件部區段和/或第二分裂薄片構件部區段上方或下方的平面。

6.根據權利要求1所述的填料系統，其中，所述分裂部提供了所述第一分裂薄片構件部區段和所述第二分裂薄片構件部區段與所述薄片構件的平面成角度的邊緣。

7.根據權利要求6所述的填料系統，其中，所述分裂部的形狀選自筆直的、彎曲的和V形形狀中的任一種。

8.根據權利要求1所述的填料系統，其中，至少一個薄片構件和/或薄片構件部區段進一步包括至少一個縫隙。

9.根據權利要求1所述的填料系統，其中，至少一個薄片構件和/或薄片構件部區段進一步包括至少一個孔和/或凹口。

10.根據權利要求1所述的填料系統，其中，多個元件結構提供所述填料系統的第一水平。

11.根據權利要求10所述的填料系統，其中，所述填料系統具有至少第二水平，所述第二水平位于所述第一水平上方，并且所述第二水平的每個元件結構相對于在所述第一水平中緊接下方的每個元件結構定位，使得第二水平的每個元件結構的氣固流動方向不同于第一水平中緊接下方的每個元件結構的氣固流動方向。

12.根據權利要求1所述的填料系統，其中，所述元件結構的形狀選自圓形、橢圓形、矩形和六邊形中的一種。