[發明專利]用于匹配目標涂層的顏色和外觀的系統和方法在審
| 申請號: | 201880085891.1 | 申請日: | 2018-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN111954885A | 公開(公告)日: | 2020-11-17 |
| 發明(設計)人: | 拉里·E·斯蒂恩胡克;羅伯特·V·坎寧;多米尼克·V·波埃里奧;內爾·墨菲 | 申請(專利權)人: | 艾仕得涂料系統知識產權有限責任公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;楊林森 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 匹配 目標 涂層 顏色 外觀 系統 方法 | ||
1.一種用于匹配目標涂層的系統,包括:
存儲裝置,其用于存儲指令;
一個或更多個數據處理器,其被配置成執行指令以:
接收所述目標涂層的目標圖像,其中,所述目標圖像包括目標圖像數據;
對所述目標圖像數據應用特征提取分析處理以確定目標圖像特征,其中,所述特征提取分析處理包括:將所述目標圖像劃分成多個目標像素、確定所述多個目標像素中的各個目標像素的目標像素特征、確定所述各個目標像素之間的目標像素特征差異以及使用所述目標像素特征差異來確定所述目標圖像特征;以及
基于基本上滿足一個或更多個預先指定的匹配準則,利用所述目標圖像特征來確定計算的匹配樣本圖像。
2.根據權利要求1所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成執行指令以將樣本圖像的樣本圖像特征與所述目標圖像特征進行比較。
3.根據權利要求1所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成應用所述特征提取分析處理,其中,所述特征提取分析處理確定以下中的一個或更多個:
所述目標圖像的所述各個目標像素的L*a*b*顏色坐標;所述目標圖像的全圖像的根據所述各個目標像素的平均L*a*b*顏色坐標;所述目標圖像的黑白圖像的閃光區域;所述目標圖像的所述黑白圖像的閃光強度;所述目標圖像的所述黑白圖像的閃光等級;所述目標圖像的閃光顏色確定;所述目標圖像的閃光聚類;所述目標圖像中的閃光色差;所述目標圖像的閃光持續性,其中,閃光持續性是作為在所述目標圖像的捕獲期間的一個或更多個照明變化的函數的閃光的度量;在所述目標圖像的捕獲期間的一個或更多個照明變化的情況下的目標像素級別的顏色恒定性;所述目標像素級別的所述目標圖像的小波系數;所述目標像素級別的所述目標圖像的傅立葉系數;所述目標圖像內的局部區域的平均顏色,其中,所述局部區域可以是一個或更多個目標像素,但是其中,所述局部區域小于所述目標圖像的總區域;所述目標圖像的離散的L*a*b*范圍內的像素計數,其中,所述L*a*b*范圍可以是固定的,或者可以被數據驅動使得所述范圍變化;所述目標圖像的所述目標像素級別的立方倉的最大填充坐標,其中,所述立方倉基于使用L*a*b*或RGB值的3維坐標映射;所述目標圖像的整體圖像顏色熵;作為所述目標圖像的第3維的函數的L*a*b*平面中的一個或更多個L*a*b*平面的圖像熵;作為所述目標圖像的所述第3維的函數的RGB平面中的一個或更多個RGB平面的圖像熵;所述目標圖像的局部目標像素變化度量;所述目標圖像的粗糙度;所述目標圖像的高方差矢量,其中,使用主成分分析來建立所述高方差矢量;以及所述目標圖像的高峰度矢量,其中,使用獨立成分分析來建立所述高峰度矢量。
4.根據權利要求1所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成執行指令以檢索數學模型以確定所述計算的匹配樣本圖像。
5.根據權利要求4所述的系統,其中,所述數學模型是機器學習模型。
6.根據權利要求1所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成確定與所述計算的匹配樣本圖像對應的涂料配方。
7.根據權利要求6所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成確定與所述計算的匹配樣本圖像對應的多個所述涂料配方,其中,所述多個涂料配方包括不同等級的涂料。
8.根據權利要求6所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成參考樣本數據庫以確定與所述計算的匹配樣本圖像對應的涂料配方。
9.根據權利要求1所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成參考樣本數據庫以確定所述計算的匹配樣本圖像。
10.根據權利要求1所述的系統,其中,所述一個或更多個數據處理器被配置成接收所述目標涂層的所述目標圖像數據,其中,所述目標圖像數據與相對于成像裝置而具有變化的光角度的所述目標涂層的多個圖像相關聯。
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