[發(fā)明專利]用于下流式反應(yīng)器的污垢收集裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880085102.4 | 申請日： | 2018-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN111542386A | 公開（公告）日： | 2020-08-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 徐占平;史蒂文·J·萊斯尼亞克;小羅伯特·L·邦廷 | 申請（專利權(quán)）人： | 環(huán)球油品有限責(zé)任公司 |
| 主分類號： | B01J19/24 | 分類號： | B01J19/24 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人： | 馬爽;臧建明 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 下流 反應(yīng)器 污垢 收集 裝置 | ||
1.一種反應(yīng)器，所述反應(yīng)器包括上部部分和下部部分，其中所述上部部分包含污垢收集裝置，其中過濾區(qū)域位于粗液體分配托盤上方，并且其中蒸氣-液體分配托盤位于所述粗液體分配托盤下方，其中所述上部部分包括聯(lián)接到所述粗液體分配托盤的圓筒形側(cè)壁。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述圓筒形側(cè)壁一直延伸到反應(yīng)器頂頭。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反應(yīng)器，其中所述圓筒形側(cè)壁的頂部包含孔或槽或切口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述下部部分包含催化劑床。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述下部部分包含介質(zhì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述下部部分包含填料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過濾區(qū)域包含具有相同物理和化學(xué)性質(zhì)的一層過濾材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過濾區(qū)域包含具有不同物理和化學(xué)性質(zhì)的多層過濾材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過濾區(qū)域包含多孔陶瓷顆粒。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過濾區(qū)域通過多個隔離物在所述粗液體分配托盤上方間隔開。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的反應(yīng)器，其中所述隔離物聯(lián)接到所述粗液體分配托盤。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述過濾區(qū)域包括多個液體溢流上升筒。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的反應(yīng)器，其中溢流上升筒的頂部包含槽，其中所述槽能夠是V形的。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的反應(yīng)器，其中所述溢流上升筒的頂部包含切口。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的反應(yīng)器，其中所述溢流上升筒包含孔。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的反應(yīng)器，其中所述溢流上升筒能夠包含帽。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器，其中所述粗液體分配托盤包含孔，所述孔的尺寸被設(shè)定成在所述粗液體分配托盤上產(chǎn)生期望的液位。
18.一種設(shè)備，所述設(shè)備包括上部部分和下部部分，其中所述上部部分包含污垢收集裝置，其中過濾區(qū)域位于粗液體分配托盤上方，并且其中蒸氣-液體分配托盤位于所述粗液體分配托盤下方，其中所述過濾區(qū)域包括液體溢流上升筒，其中所述上部部分包括聯(lián)接到所述粗液體分配托盤的圓筒形側(cè)壁。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其中液體溢流上升筒的頂部包含槽，其中所述槽能夠是V形的。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其中所述液體溢流上升筒的頂部包含切口。
21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其中所述溢流上升筒包含孔。
22.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其中所述溢流上升筒能夠包含帽。
23.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其中所述粗液體分配托盤包含孔，所述孔的尺寸被設(shè)定成在所述粗液體分配托盤上產(chǎn)生期望的液位。
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