[發明專利]用于開放式X射線管的透射靶、開放式X射線管、用于識別透射靶的方法以及用于調整該透射靶的特性參數的方法

在審

• 申請號: 201880084991.2
• 申請日: 2018-12-17
• 公開（公告）號: CN111602222A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 安德烈·舒;費邊·泰爾
• 申請（專利權）人: 依科視郎國際有限公司
• 主分類號: H01J35/08
• 分類號: H01J35/08
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 崔玥

1.一種用于開放式X射線管、尤其是開放式微焦點X射線管的透射靶，其包括由載體材料制成的載體層(1)以及由靶材料制成的靶層(2)，其中，在所述載體層(1)的標識區域(10)中，在所述透射靶的安裝狀態下，在面向所述X射線管的電子源的一側將標識材料(9)施加于所述載體層(1)上。

2.根據權利要求1所述的透射靶，其中，所述標識材料(9)施加于所述載體層(1)的邊緣區域內。

3.根據權利要求2所述的透射靶，其中，所述透射靶呈圓形，并且所述標識材料(9)與所述載體層(1)的中心同心布置。

4.一種開放式X射線管，尤其是開放式微焦點X射線管，其包括：透射靶，所述透射靶具有靶層(2)并且所述透射靶的載體層(1)連接至靶電流測量裝置(5)；以及電子俘獲套筒(3)，所述電子俘獲套筒與所述透射靶電絕緣并連接至背向散射電子電流測量裝置(4)。

5.根據權利要求4所述的X射線管，其中，實施根據權利要求1至3中任一項所述的透射靶，或者在其標識區域(10)中，未將附加材料施加于所述載體層(1)上。

6.一種用于識別裝入根據權利要求4或5所述的X射線管的具體透射靶的方法，其中，通過偏轉單元(6)將電子束(7)以標識模式引導到所述透射靶的標識區域(10)上，從而由靶電流測量裝置(5)測量靶電流并由背向散射電子電流測量裝置(4)測量背向散射電子電流；根據這兩個電流之比，確定所述電子束(7)當前撞擊所述標識區域(10)中的材料或材料層厚；以及根據確知這種材料或其層厚，推斷出所使用的透射靶的類型。

7.一種用于識別裝入根據權利要求4或5所述的X射線管的具體透射靶的方法，其中，通過偏轉單元(6)將電子束(7)以標識模式引導到所述透射靶的靶層(2)上，從而將所述電子束(7)的電子能調整到預定值，并且針對其中每個能量值，由背向散射電子電流測量裝置(4)測量背向散射電子電流；根據所述電子束(7)的電子能與所述背向散射電子電流的各個相關值之比，推斷出所述透射靶的靶層(2)的材料和層厚。

8.一種用于根據執行權利要求6或7所述的識別方法自動調整裝入根據權利要求4或5中任一項所述的X射線管的透射靶的特性參數的方法，其中，將與所識別的所用透射靶的類型相關聯的特性參數存儲在數據庫中，將這些特性參數傳輸到各特性參數的調整設備，并通過這些調整設備對這些特性參數進行調整。