[發明專利]阻氣性膜及其制造方法有效
| 申請號: | 201880084924.0 | 申請日: | 2018-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN111542433B | 公開(公告)日: | 2022-05-03 |
| 發明(設計)人: | 齋尾崇;藤本清紀 | 申請(專利權)人: | 大賽璐優越涂層株式會社 |
| 主分類號: | B32B27/30 | 分類號: | B32B27/30;B05D7/24;B32B9/00;B65D65/40;C09D7/63;C09D127/08 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣性 及其 制造 方法 | ||
1.一種阻氣性膜,其包含:
基材層;
包覆該基材層的至少一面的無機質層;以及
包覆該無機質層、且包含含有羰基的第一偏氯乙烯共聚物的涂層,
其中,在所述第一偏氯乙烯共聚物的13C-NMR光譜中,170~180ppm的信號的積分值相對于80~85ppm的信號的積分值為0.001~0.05倍。
2.根據權利要求1所述的阻氣性膜,其中,
第一偏氯乙烯共聚物還含有氰基。
3.根據權利要求1或2所述的阻氣性膜,其中,
涂層還包含第二偏氯乙烯共聚物,在該第二偏氯乙烯共聚物的13C-NMR光譜中,170~180ppm的信號的積分值相對于80~85ppm的信號的積分值小于0.001倍。
4.根據權利要求3所述的阻氣性膜,其中,
第一偏氯乙烯共聚物與第二偏氯乙烯共聚物的重量比例為前者/后者=99/1~30/70。
5.根據權利要求1或2所述的阻氣性膜,其中,
涂層還包含硅烷偶聯劑。
6.根據權利要求1或2所述的阻氣性膜,其中,
無機質層為氧化硅。
7.根據權利要求1或2所述的阻氣性膜,其在40℃、90%RH下的水蒸氣透過度小于0.1g/m2·天。
8.一種阻氣性膜的制造方法,其是制造權利要求1~7中任一項所述的阻氣性膜的方法,該方法包括:
在基材層的至少一面形成無機質層的第一層疊工序;以及
在無機質層上形成涂層的第二層疊工序。
9.根據權利要求8所述的制造方法,其中,
在第二層疊工序中,在涂敷用于形成涂層的液態組合物之后進行干燥,然后進行老化。
10.根據權利要求9所述的制造方法,其中,
在濕潤狀態下進行老化。
11.根據權利要求8所述的制造方法,其中,
用于形成涂層的液態組合物中的水的含有比例為0.15重量%以上。
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