[發明專利]用于圖像散射校正的系統和方法

有效

• 申請號: 201880084682.5
• 申請日: 2018-12-14
• 公開（公告）號: CN111526796B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發明（設計）人: 姚鵬;袁洲
• 申請（專利權）人: 上海聯影醫療科技股份有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 成都七星天知識產權代理有限公司 51253
• 代理人: 楊永梅

1.一種系統，包括：

至少一個存儲設備，包括用于圖像散射校正的一組指令；以及

至少一個處理器，被配置為與所述至少一個存儲設備通信，其中，當執行所述一組指令時，所述至少一個處理器被配置為指示所述系統：

獲取受試體的圖像，所述圖像是根據由X射線成像設備獲得的所述受試體的掃描數據生成；

獲取空氣的參考圖像，所述參考圖像是根據由所述X射線成像設備獲得的空氣的掃描數據生成；

從所述圖像中識別出感興趣對象(OOI)，所述感興趣對象包括一個或以上像素；

對于所述感興趣對象的一個或以上像素中的每個像素，

基于所述每個像素的像素值和所述參考圖像，確定與所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度；

至少部分地基于與所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度，確定所述每個像素的散射校正系數，包括：

獲取與模體的掃描有關的光子信息，所述模體的厚度基本等于所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度，所述光子信息包括每個光子在所述X射線成像設備的至少兩個探測器單元上的入射角和每個光子的光子能量；

基于至少兩個光子的光子信息確定一個或以上散射光子；

基于所述光子信息和所述確定的一個或以上散射光子，確定與所述至少兩個探測器單元對應的至少兩個散射校正系數；

將用于獲取所述掃描數據的一部分的探測器單元的散射校正系數指定為所述每個像素的散射校正系數，所述掃描數據的一部分對應所述每個像素；

以及

使用所述對應的散射校正系數來校正所述每個像素的像素值。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，為了確定與所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度，所述至少一個處理器進一步被配置為指示所述系統：

對于所述感興趣對象中的一個或多個候選像素中的每個候選像素，基于所述候選像素的像素值和所述參考圖像，確定與所述候選像素對應的感興趣對象的厚度；

基于與所述一個或以上候選像素對應的感興趣對象的厚度，確定與所述一個或以上候選像素對應的感興趣對象的平均厚度；以及

將與所述一個或以上候選像素對應的感興趣對象的平均厚度指定為與所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度。

3.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，為了基于所述候選像素的像素值和所述參考圖像，確定與所述候選像素對應的感興趣對象的厚度，所述至少一個處理器為進一步被配置指示所述系統：

確定所述受試體的圖像中所述候選像素的像素值和參考圖像中與該候選像素對應的像素的像素值的比率；以及

基于所述比率和所述感興趣對象的線性衰減系數，確定與所述感興趣對象對應的感興趣對象的厚度。

4.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，為了確定與所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度，所述至少一個處理器進一步被配置為指示所述系統：

將所述感興趣對象確定為至少兩個子區域；

對于所述子區域中的每個子區域，

對于所述子區域中的一個或以上候選像素中的每個候選像素，基于所述候選像素的像素值和所述參考圖像，確定與所述候選像素對應的感興趣對象的厚度；

基于與所述子區域中的所述一個或以上候選像素對應的感興趣對象的厚度，確定與所述子區域中的所述一個或以上候選像素對應的子區域中的平均厚度；以及

將與所述子區域中的所述一個或以上候選像素對應的子區域的平均厚度，指定為與所述子區域中的每個像素對應的感興趣對象的等效厚度。

5.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，對于所述感興趣對象的所述一個或以上像素的每個像素，為了至少部分地基于與所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度，確定所述每個像素的散射校正系數，所述至少一個處理器進一步被配置為指示所述系統：

獲取對應于目標等效厚度的校正模板，所述目標等效厚度為與所述每個像素對應的感興趣對象的等效厚度，所述校正模板包括與所述至少兩個探測器單元對應的至少兩個散射校正系數。