[發明專利]含粉塵氣體處理裝置

有效

• 申請號: 201880080003.7
• 申請日: 2018-11-20
• 公開（公告）號: CN111479624B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 淡路敏夫
• 申請（專利權）人: 澄明科技有限公司
• 主分類號: B01D47/06
• 分類號: B01D47/06;A46B13/02;B01D47/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 史雁鳴

本發明提供一種能夠順暢地進行高濃度的含粉塵氣體的處理的含粉塵氣體處理裝置，所述含粉塵氣體處理裝置具有：筒狀的處理室(1)，含有粉塵的氣體被導入所述處理室(1)，從該氣體中去除粉塵；捕集體(2)，所述捕集體(2)配置在該處理室(1)內，捕集氣體中所含有的粉塵，由在支承體(21)上植設有毛(22)的刷構成；液體的散布機構(3)，所述液體的散布機構(3)配置于處理室(1)；液體的貯存部(5)，所述液體的貯存部(5)配備有形成于處理室(1)的下部的攪拌體(4)；旋轉驅動機構(6)，所述旋轉驅動機構(6)使捕集體(2)及攪拌體(4)旋轉；氣體導入部(7)，所述氣體導入部(7)將含有粉塵的氣體導入處理室(1)；氣體排出部(8)，所述氣體排出部(8)從處理室(1)排出去除了粉塵的氣體；以及液體排出部(9)，所述液體排出部(9)排出含有從氣體中去除的粉塵的液體。

技術領域

本發明涉及從含有粉塵的氣體中去除粉塵的含粉塵氣體處理裝置。

背景技術

以往，作為從含有粉塵的氣體中去除粉塵的含粉塵氣體處理裝置，提出了干式和濕式的各種裝置(例如，參照專利文獻1～2)。

然而，以往的含粉塵氣體處理裝置大多以進行從半導體制造裝置排出的廢氣等濃度比較低的含粉塵氣體的處理為目的，在用于高濃度的含粉塵氣體的處理的情況下，存在著不能順暢地進行處理的問題。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2000-140546號公報

專利文獻2：日本實開平4-65114號公報

發明內容

發明所要解決的課題

鑒于上述以往的含粉塵氣體處理裝置所存在的問題，本發明的目的在于，提供一種能夠順暢地進行高濃度的含粉塵氣體的處理的含粉塵氣體處理裝置。

用于解決課題的手段

為了實現上述目的，本發明的含粉塵氣體處理裝置，用于從含有粉塵的氣體中去除粉塵，其特征在于，所述含粉塵氣體處理裝置具有：筒狀的處理室，含有粉塵的氣體被導入所述處理室，從該氣體中去除粉塵；捕集體，所述捕集體配置在該處理室內，捕集氣體中所含有的粉塵，由在支承體上植設有毛的刷構成；液體的散布機構，所述液體的散布機構配置于處理室；在處理室內流下的液體的貯存部；旋轉驅動機構，所述旋轉驅動機構使捕集體旋轉；氣體導入部，所述氣體導入部將含有粉塵的氣體導入處理室；氣體排出部，所述氣體排出部從處理室排出去除了粉塵的氣體；以及液體排出部，所述液體排出部排出含有從氣體中去除的粉塵的液體。

在上述情況下，可以配置能夠在處理室的上下方向上對所述氣體導入部及氣體排出部進行切換的切換機構。

另外，可以在比所述液體的貯存部的內底面靠上方的位置配置液體排出部，在比液體排出部靠上方的位置配置氣體導入部及氣體排出部。

另外，可以將所述液體的散布機構配置在處理室的中間位置，分別利用憎水性的材料構成由比所述液體的散布機構靠上方的位置的刷構成的捕集體的毛，由親水性的材料構成由下方位置的刷構成的捕集體的毛。

另外，可以在所述液體的貯存部配備攪拌體，并且配備使該攪拌體旋轉的旋轉驅動機構。

另外，可以將所述處理室上下劃分開地設置。

另外，可以由多個含粉塵氣體處理裝置共用所述液體的貯存部及液體排出部。

另外，可以使回收到所述液體的貯存部中的液體在液體的散布機構中循環。

發明效果