[發(fā)明專利]毛發(fā)護(hù)理組合物

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880079101.9
• 申請(qǐng)日: 2018-11-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111432785A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 費(fèi)琮瑋;皮瑛瑛;R·蘇布蘭馬尼安
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 荷蘭聯(lián)合利華有限公司
• 主分類號(hào): A61K8/27
• 分類號(hào): A61K8/27;A61K8/46;A61Q5/00;A61K8/81
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 吳亦華;袁元

公開(kāi)了一種毛發(fā)護(hù)理組合物，其包含共聚物，具有式RO(CH₂CH₂O)_nSO₃M的乙氧基化烷基硫酸鹽陰離子表面活性劑，其中R為具有8至18個(gè)碳原子的烷基或烯基，M為包括鈉、鉀、銨或其混合物的增溶性陽(yáng)離子；乙氧基化度n為2，和0.01至5重量％的鋅基抗頭皮屑劑；其中所述共聚物包含：式CH₂＝C(R¹)?CO?NH?(CH₂)_dN⁺R²R³R⁴X^?表示的陽(yáng)離子乙烯基單體A，其中R¹為氫原子或甲基，R²至R⁴各自獨(dú)立地為C_1?24烷基，優(yōu)選C_1?3烷基，X^?獨(dú)立地為氟離子、氯離子、溴離子或碘離子陰離子，優(yōu)選氯離子，且d為1至10的整數(shù)；由式CH₂＝C(R⁵)?CO(O)?(CH₂)_eN⁺R⁶R⁷R⁸Y^?表示的陽(yáng)離子乙烯基單體B，其中R⁵為氫原子或甲基，R⁶至R⁸各自獨(dú)立地為C_1?24烷基，優(yōu)選C_1?3烷基，Y^?獨(dú)立地為氟離子、氯離子、溴離子或碘離子陰離子，優(yōu)選氯離子，且e為1至10的整數(shù)；式CH₂＝C(R⁹)?CO?NR¹⁰R¹¹表示的乙烯基單體C，其中R⁹為氫原子或甲基，R¹⁰和R¹¹各自獨(dú)立地為氫原子或C_1?4烷基，條件是R¹⁰和R¹¹的碳數(shù)之和為1至4；和其中單體A的含量基于所述共聚物的總單體含量為1至44mol％，單體B的含量為1至44mol％，和單體C的含量基于所述共聚物的總單體含量為20至75mol％。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及毛發(fā)護(hù)理組合物，尤其是包含共聚物、特定陰離子表面活性劑、和鋅基抗頭皮屑劑的毛發(fā)護(hù)理組合物，其產(chǎn)生較小絮凝尺寸和增強(qiáng)的向毛發(fā)和/或頭皮遞送抗頭皮屑劑的效率，以確保最大限度的抗微生物功效。

背景技術(shù)

毛發(fā)護(hù)理組合物通常提供清潔或調(diào)理益處或兩者的組合。這樣的組合物典型地包含一種或多種清潔表面活性劑，其通常有助于清潔毛發(fā)和頭皮，擺脫不期望的污物、顆粒和脂肪物質(zhì)。調(diào)理益處是通過(guò)在毛發(fā)護(hù)理組合物中包含一種或多種調(diào)理劑而實(shí)現(xiàn)。調(diào)理益處是采用沉積到毛發(fā)上，導(dǎo)致形成膜的油性物質(zhì)遞送，所述膜使得毛發(fā)當(dāng)潮濕時(shí)更容易梳理和當(dāng)干燥時(shí)更可打理。

另外，已經(jīng)通過(guò)毛發(fā)護(hù)理組合物提供抗頭皮屑益處。頭皮屑是影響全球許多人的問(wèn)題。該情況表現(xiàn)為從頭皮脫落死皮膚細(xì)胞團(tuán)。這些的顏色是白色，并且提供美學(xué)上令人不愉快的外觀。對(duì)頭皮屑作出貢獻(xiàn)的因素是馬拉色菌屬(Malassezia)酵母的某些成員。為了對(duì)抗這些，抗頭皮屑產(chǎn)品已經(jīng)包含具有抗真菌活性的某些抗頭皮屑劑。這樣的產(chǎn)品必須作為毛發(fā)清潔洗發(fā)劑起作用，同時(shí)緩解頭皮屑的起因。因此，一直期望改善抗頭皮屑劑的遞送效率，以最大化這樣的抗頭皮屑劑的功效。

在毛發(fā)護(hù)理中使用的典型抗頭皮屑劑為金屬吡啶硫酮鹽，例如吡啶硫酮鋅、吡羅克酮乙醇胺鹽(羥甲辛吡酮(octopirox))、基于唑類的抗真菌劑(例如，氯咪巴唑)、硫化硒及其組合。在這些中，吡啶硫酮鋅是顆粒狀材料。

陽(yáng)離子聚合物通常用于增強(qiáng)調(diào)理劑和/或抗頭皮屑劑沉積到毛發(fā)和/或頭皮上。這些聚合物可以是已經(jīng)用陽(yáng)離子取代基改性的合成或天然聚合物。