[發明專利]黑色低反射膜及積層體的制造方法

有效

• 申請號: 201880079014.3
• 申請日: 2018-12-06
• 公開（公告）號: CN111448483B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發明（設計）人: 田中直宏
• 申請（專利權）人: 東洋油墨SC控股株式會社;東洋色材株式會社
• 主分類號: G02B1/111
• 分類號: G02B1/111;B05D5/06;G02B5/00;G02B5/20
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種黑色低反射膜，其以50:50～100:0的體積比率包含空隙率為50％以上的多孔質黑色顏料與粘合劑成分，

所述多孔質黑色顏料的平均分散粒徑d50為0.2μm～10μm，

所述黑色低反射膜的膜厚為0.3μm以上，

所述多孔質黑色顏料為多孔質碳黑，

表面的粗糙度參數Rt、Ra中，Rt為0.15μm～5μm、Ra為0.01μm～0.5μm，

L*值為20以下，

在400nm～700nm中，正反射率的最大值為0.8％以下、散射反射率的最大值為2％以下、光透過率的最大值為5％以下。

2.根據權利要求1所述的黑色低反射膜，其中，在400nm～700nm中，正反射率的最大值為0.4％以下、散射反射率的最大值為1.3％以下。

3.根據權利要求1或2所述的黑色低反射膜，其中，Rt為0.15μm～2μm，Ra為0.01μm～0.15μm。

4.根據權利要求1或2所述的黑色低反射膜，其中，所述黑色低反射膜的膜厚為1μm以上。

5.根據權利要求1或2所述的黑色低反射膜，其中，所述多孔質黑色顏料的BET比表面積為600m²/g以上。

6.根據權利要求1或2所述的黑色低反射膜，其中，所述多孔質黑色顏料與所述粘合劑成分的體積比率為85:15～95:5。

7.根據權利要求1或2所述的黑色低反射膜，其中，所述多孔質黑色顏料為單獨使用的多孔質碳黑。

8.一種積層體的制造方法，所述積層體具有基材及黑色低反射膜的積層體，所述制造方法包括：

準備黑色低反射膜用涂料的步驟，所述黑色低反射膜用涂料含有空隙率為50％以上的多孔質黑色顏料、分散介質及視需要的粘合劑成分，且所述多孔質黑色顏料的平均分散粒徑d50為0.2μm～10μm；所述多孔質黑色顏料為多孔質碳黑，

將所述黑色低反射膜用涂料涂敷于所述基材上的步驟；以及

對由所述黑色低反射膜用涂料形成的涂敷膜進行干燥的步驟，

所述黑色低反射膜以50:50～100:0的體積比率包含所述多孔質黑色顏料與所述粘合劑成分，所述黑色低反射膜的膜厚為0.3μm以上，

表面的粗糙度參數Rt、Ra中，Rt為0.15μm～5μm、Ra為0.01μm～0.5μm，

L*值為20以下，

在400nm～700nm中，正反射率的最大值為0.8％以下、散射反射率的最大值為2％以下、光透過率的最大值為5％以下。

9.根據權利要求8所述的積層體的制造方法，其中，所述黑色低反射膜的膜厚為1μm以上。

10.根據權利要求8所述的積層體的制造方法，其中，所述多孔質黑色顏料的BET比表面積為600m²/g以上。