[發明專利]柔性OLED裝置及其制造方法以及支承基板

在審

• 申請號: 201880078128.6
• 申請日: 2018-03-20
• 公開（公告）號: CN111869327A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 岸本克彥
• 申請（專利權）人: 堺顯示器制品株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;H01L51/50
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 葉乙梅

1.一種柔性OLED裝置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括如下工序：

準備層疊結構體的工序，所述層疊結構體包括基座、包括TFT層以及OLED層的功能層區域、位于所述基座和所述功能層區域之間且用于支承所述功能層區域的柔性膜以及位于所述柔性膜和所述功能層區域之間的電介質多層膜鏡；以及

用透射所述基座的紫外激光照射所述柔性膜并從所述基座剝離所述柔性膜的工序。

2.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于，準備所述層疊結構體的工序包括：

在所述柔性膜上形成所述電介質多層膜鏡的工序；

在所述電介質多層膜鏡上形成阻氣膜的工序；

在所述阻氣膜上形成半導體層的工序；以及

用激光照射所述半導體層而改性所述半導體層的工序，其中，所述激光具有與所述紫外激光所具有的第一波長不同的第二波長，

與在所述第一波長的所述電介質多層膜鏡的反射率相比，在所述第二波長的所述電介質多層膜鏡的反射率相對低。

3.根據權利要求2所述的制造方法，其特征在于，

具有所述第一波長的所述紫外激光透射所述基座以及所述柔性膜之后入射至所述電介質多層膜鏡，

具有所述第二波長的所述激光透射所述半導體層之后入射至所述電介質多層膜鏡。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的制造方法，其特征在于，

準備所述層疊結構體的工序是在所述柔性膜上形成所述電介質多層膜鏡工序，

并且準備所述層疊結構體的工序包括：形成具有第一折射率的高折射率層的工序；以及形成具有第二折射率的低折射率層的工序，其中，所述第二折射率低于所述第一折射率。

5.根據權利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述電介質多層膜鏡所包括的所述高折射率層的總厚度為100nm以上。

6.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述阻氣膜的厚度為200nm以下。

7.根據權利要求4～6中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述高折射率層由選自由Si₃N₄、SiN_x、Al₂O₃、HfO₂、Sc₂O₃、Y₂O₃、ZrO₂、Ta₂O₅、TiO₂和Nb₂O₅組成的組中的至少一種材料形成，所述低折射率層由選自由SiO₂、MgF₂、CaF₂、AlF₃、YF₃、LiF和NaF組成的組中的至少一種材料形成。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的制造方法，其特征在于，所述柔性膜的厚度為5μm以上且20μm以下。

9.一種柔性OLED裝置，其特征在于，其包括：

功能層區域，其包括TFT層以及OLED層；

柔性膜，其用于支承所述功能層區域；以及

電介質多層膜鏡，其位于所述柔性膜以及所述功能層區域之間。

10.根據權利要求9所述的柔性OLED裝置，其特征在于，所述電介質多層膜鏡包括：

每一層具有第一折射率的三層以上的高折射率層；以及

每一層具有第二折射率，且位于所述三層以上的高折射率層之間的兩層以上的低折射率層，其中，所述第二折射率低于所述第一折射率。