[發(fā)明專利]制氫用催化劑及使用其的廢氣凈化用催化劑有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880076914.2 | 申請日： | 2018-12-13 |
| 公開（公告）號： | CN111405941B | 公開（公告）日： | 2022-09-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 蘆刈健治;荻野祐司;羽田有佑 | 申請（專利權(quán)）人： | 優(yōu)美科觸媒日本有限公司 |
| 主分類號： | B01J23/63 | 分類號： | B01J23/63;B01D53/94;C01B3/16;F01N3/08 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 吳宗頤 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制氫用 催化劑 使用 廢氣 凈化 | ||
1.制氫用催化劑，其具有：含有Al、Ce和Zr的復(fù)合體、和Rh，
將所述復(fù)合體的采用熒光X射線(XRF)分析測定的Al原子數(shù)相對于Ce原子數(shù)的比例(Al/Ce)設(shè)為R1、將所述復(fù)合體的采用X射線光電子能譜(XPS)法測定的Al原子數(shù)相對于Ce原子數(shù)的比例(Al/Ce)設(shè)為R2時，R2/R1的值大于2.25且小于5.92。
2.權(quán)利要求1所述的制氫用催化劑，其中，所述R2/R1的值為2.40～5.23。
3.權(quán)利要求1或2所述的制氫用催化劑，其中，相對于所述復(fù)合體中含有的金屬元素的原子數(shù)，所述復(fù)合體中的Al原子數(shù)的比例為50～92％。
4.權(quán)利要求1～3中任一項所述的制氫用催化劑，其中，相對于所述復(fù)合體中含有的金屬元素的原子數(shù)，所述復(fù)合體中的Ce原子數(shù)的比例為3～20％。
5.權(quán)利要求1～4中任一項所述的制氫用催化劑，其中，相對于所述復(fù)合體中含有的金屬元素的原子數(shù)，所述復(fù)合體中的Zr原子數(shù)的比例為5～30％。
6.權(quán)利要求1～5中任一項所述的制氫用催化劑，其中，所述復(fù)合體還含有Nd。
7.權(quán)利要求6所述的制氫用催化劑，其中，相對于所述復(fù)合體中含有的金屬元素的原子數(shù)，所述復(fù)合體中的Nd原子數(shù)的比例為0.5～2.0％。
8.權(quán)利要求1～7中任一項所述的制氫用催化劑，其中，所述復(fù)合體還含有La。
9.權(quán)利要求8所述的制氫用催化劑，其中，相對于所述復(fù)合體中含有的金屬元素的原子數(shù)，所述復(fù)合體中的La原子數(shù)的比例為0.20～1.0％。
10.廢氣凈化用催化劑，其在載體上具有：包含權(quán)利要求1～9中任一項所述的制氫用催化劑的催化劑層、和其他催化劑層。
11.權(quán)利要求10所述的廢氣凈化用催化劑，其在所述載體上將包含Pd的下催化劑層和包含所述制氫用催化劑的上催化劑層依次層疊而成。
12.權(quán)利要求10所述的廢氣凈化用催化劑，其在所述載體上將包含所述制氫用催化劑的下催化劑層和包含Pd的上催化劑層依次層疊而成。
13.權(quán)利要求11或12所述的廢氣凈化用催化劑，其中，所述下催化劑層或所述上催化劑層中的至少一方包含含有CeO2和ZrO2的復(fù)合氧化物。
14.氫的制造方法，其中，使權(quán)利要求1～9中任一項所述的制氫用催化劑與CO和H2O接觸。
15.廢氣的凈化方法，其是使用權(quán)利要求10～13中任一項所述的廢氣凈化用催化劑的廢氣的凈化方法，包括：
使包含所述制氫用催化劑的催化劑層與CO和H2O接觸以生成氫的工序；以及
使包含所述制氫用催化劑的催化劑層和/或所述其他催化劑層與所述氫和NOx接觸的工序。
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