[發明專利]干涉成像設備及其應用

有效

• 申請號: 201880074667.2
• 申請日: 2018-09-18
• 公開（公告）號: CN111386439B
• 公開（公告）日: 2022-07-12
• 發明（設計）人: 何端書;陳怡伶;季丹;盧松暐;劉子維;曾仁輿;林廷岳;呂志偉;林嘉偉;莊又澄;黃升龍
• 申請（專利權）人: 安盟生技股份有限公司
• 主分類號: G01B9/02
• 分類號: G01B9/02;A61B5/00
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 張少波;楊明釗

1.一種干涉成像設備，包括：

照明模塊，所述照明模塊被配置用于向光學干涉模塊提供源光，所述光學干涉模塊將所述源光轉換成線光并處理光信號，并使所述線光具有3至100的長寬比；干涉物鏡模塊，所述干涉物鏡模塊操縱來自所述光學干涉模塊的光并處理從樣品生成的光信號；二維相機，所述二維相機被配置用于接收來自所述樣品的背向散射干涉信號；以及數據處理模塊，所述數據處理模塊將所述干涉信號處理成圖像。

2.根據權利要求1所述的設備，其中所述照明模塊包括放大自發輻射光源、超發光二極管、發光二極管、寬帶超連續譜光源、鎖模激光器、可調諧激光器、傅里葉域鎖模光源、光學參量振蕩器、鹵素燈、Ce³⁺:YAG晶體光纖、Ti³⁺:Al₂O₃晶體光纖或Cr⁴⁺:YAG晶體光纖。

3.根據權利要求2所述的設備，其中所述照明模塊包括Ce³⁺:YAG晶體光纖、Ti³⁺:Al₂O₃晶體光纖或Cr⁴⁺:YAG晶體光纖。

4.根據權利要求1所述的設備，其中所述光學干涉模塊被配置用于生成由所述照明模塊中的光源投射的線光。

5.根據權利要求4所述的設備，其中所述光學干涉模塊包括畸變透鏡或光纖束線陣，以將來自所述光源的光轉換成線光。

6.根據權利要求5所述的設備，所述線光具有5至20的長寬比。

7.根據權利要求1所述的設備，其中所述干涉物鏡模塊包括物鏡和干涉裝置手段，所述干涉裝置手段被配置用于將線光處理到所述樣品并從其接收背向散射信號以生成干涉信號。

8.根據權利要求7所述的設備，其中所述干涉物鏡模塊是Mirau型干涉物鏡模塊、邁克爾遜型干涉模塊，或者馬赫-曾德爾干涉物鏡模塊。

9.根據權利要求7所述的設備，其中所述物鏡是具有浸沒溶液的浸沒式物鏡，該浸沒溶液具有1.2至1.8范圍內的折射率。

10.根據權利要求1所述的設備，其中所述設備還包括成像引導模塊，所述成像引導模塊包括相機鏡頭和用于成像引導的二維相機。

11.根據權利要求10所述的設備，其中所述成像引導模塊和所述干涉物鏡模塊共享同一光通道或路徑，從而提供重疊視場。

12.根據權利要求11所述的設備，其中所述干涉物鏡模塊還包含光源，以便將光投射到所述樣品上。

13.根據權利要求7所述的設備，其中所述干涉裝置手段包括涂覆有反射鏡的第一玻璃板、第二玻璃板和第三玻璃板，其中涂覆反射鏡以生成參考臂并與所述樣品返回的散射光產生干涉。

14.根據權利要求13所述的設備，其中所述反射鏡被配置成具有平行于所述線光的形狀。

15.根據權利要求14所述的設備，所述第一玻璃板上的所述反射鏡具有細線形狀，該細線形狀具有1至5000、4至1000、8至250或10至100的長寬比。

16.根據權利要求15所述的設備，其中所述第一玻璃板還包括在所述第一玻璃板的相對側處于與所述反射鏡相對應的位置的黑斑。

17.根據權利要求16所述的設備，其中所述黑斑是吸光性的，以便阻擋雜散光。