[發明專利]流體凈化設備

在審

• 申請號: 201880074598.5
• 申請日: 2018-11-15
• 公開（公告）號: CN111542498A
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發明（設計）人: 杰拉爾德·弗克斯
• 申請（專利權）人: 龐蒂克技術有限責任公司
• 主分類號: C02F1/36
• 分類號: C02F1/36
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 張禹

1.一種流體凈化設備，包括：

本體，限定了使流體能夠穿其而過流動的外殼，該本體具有相反的端部；

入口孔，聯接到被污染流體源并且聯接到本體，用于將流體流引入到外殼中，該入口孔構造成在離開入口孔時在該外殼內產生水力空化；

設置在該外殼內的三維開放式結構的(3DOS)基材，該3DOS基材的開放度范圍為每英寸10個孔(ppi)至50ppi，相對密度在2％與20％之間，3DOS結構位于該入口孔附近，以使該3DOS基材擴展進入該3DOS基材的流體流中的水力空化，從而能夠破壞被污染流體中所含的有毒物質和不希望的有機化合物；以及

出口孔，用于從外殼排出流體流，該入口孔和該出口孔構造成引導流體流穿過該外殼。

2.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，對于在3.5升/分鐘至5.0升/分鐘之間的水流量，流體流以0.2MPa至0.55MPa范圍的壓力引入該本體內。

3.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該3DOS基材被配置成使得在其中延伸的水力空化導致在10到500MPa之間的局部壓力和在1000到10,000K之間的局部溫度。

4.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該入口孔是文丘里噴嘴。

5.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該入口孔聯接到該本體的第一相反端并具有定向成與流體流動方向對準的噴嘴開口。

6.如權利要求1所述的流體凈化設備，進一步包括第二入口孔，聯接到本體并具有定向成與該流體流動方向正交的噴嘴開口。

7.如權利要求6所述的流體凈化設備，進一步包括聯接到該本體的多個入口孔，每個入口孔具有定向成與該流體流動方向正交的噴嘴開口。

8.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該入口孔聯接到空氣供應源，以使該流體流能夠與空氣一起引入到該外殼內，以在離開該入口孔時在該外殼內增強水力空化。

9.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該3DOS基材包括金屬合金，該金屬合金配置為相對密度在百分之2至百分之15之間的金屬泡沫。

10.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該3DOS基材包括波紋金屬結構。

11.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該3DOS基材包括相對密度在百分之3至百分之4之間的碳泡沫。

12.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該3DOS基材包括相對密度在百分之3至百分之20之間的陶瓷泡沫。

13.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該3DOS基材限定多個區段，每個區段配置為開放度和相對密度彼此不同。

14.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該3DOS基材限定涂覆有催化劑的多孔表面，以引起化學反應，從而能夠破壞被污染流體中所含的有毒物質和不希望的有機化合物。

15.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中，該入口孔和該出口孔聯接到管道系統并與管道系統對準以形成連續的管道區段。

16.如權利要求1所述的流體凈化設備，其中：

該本體包括石英材料，以使圍繞該本體設置的殺菌UV燈能夠將UV光輻射投射到該流體流上；并且

該3DOS基材包括石英材料，以使該殺菌UV燈能夠將UV光輻射投射到該流體流上。