[發(fā)明專(zhuān)利]用于沉積的掩模及用于制造該掩模的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880074235.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111373564A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李相侑;曹榮得;金南昊 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | LG伊諾特有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L51/56 | 分類(lèi)號(hào): | H01L51/56;H01L51/00;G03F7/20;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 董敏;李新燕 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 沉積 制造 方法 | ||
實(shí)施方式涉及一種用于制造用于沉積OLED像素的沉積掩模的方法,該方法包括以下步驟:準(zhǔn)備金屬板;在金屬板的一個(gè)表面上設(shè)置第一光致抗蝕劑層,并且通過(guò)對(duì)第一光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光和顯影而使第一光致抗蝕劑層圖案化;通過(guò)對(duì)圖案化的第一光致抗蝕劑層的開(kāi)口部分進(jìn)行半蝕刻而在金屬板的所述一個(gè)表面上形成第一凹槽;在金屬板的與所述一個(gè)表面相反的另一表面上設(shè)置第二光致抗蝕劑層,并且通過(guò)對(duì)第二光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光和顯影而使第二光致抗蝕劑層圖案化;通過(guò)對(duì)圖案化的第二光致抗蝕劑層的開(kāi)口部分進(jìn)行半蝕刻而形成連接至第一凹槽的通孔;以及通過(guò)移除第一光致抗蝕劑層和第二光致抗蝕劑層而在金屬板上形成掩模圖案,其中,金屬板具有由以下等式1表示的平直度值,金屬板的平直度為0.006%或更小。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及能夠使長(zhǎng)度偏差最小化的沉積掩模及制造該沉積掩模的方法。
背景技術(shù)
顯示裝置通過(guò)應(yīng)用于各種裝置來(lái)使用。例如,顯示裝置通過(guò)不僅應(yīng)用于諸如智能電話(huà)和平板電腦之類(lèi)的小型裝置而且應(yīng)用于諸如電視、監(jiān)測(cè)器和公共顯示器(PD)之類(lèi)的大型裝置來(lái)使用。特別地,近來(lái),對(duì)500像素每英寸(PPI)或更高像素的超高清(UHD)的需求已經(jīng)增加,并且高分辨率顯示裝置已經(jīng)應(yīng)用于小型裝置和大型裝置。因此,對(duì)用于實(shí)現(xiàn)低功率和高分辨率的技術(shù)的興趣日益增加。
通常使用的顯示裝置可以根據(jù)驅(qū)動(dòng)方法大致分類(lèi)成液晶顯示器(LCD)、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)等。
LCD是通過(guò)使用液晶驅(qū)動(dòng)的顯示裝置,并且LCD具有下述結(jié)構(gòu):在該結(jié)構(gòu)中,在液晶的下部部分處設(shè)置有包括冷陰極熒光燈(CCFL)、發(fā)光二極管(LED)等的光源。LCD是通過(guò)使用設(shè)置在光源上的液晶控制從光源發(fā)射的光量來(lái)驅(qū)動(dòng)的顯示裝置。
另外,OLED是通過(guò)使用有機(jī)材料驅(qū)動(dòng)且不需要獨(dú)立光源的顯示裝置,并且有機(jī)材料本身可以充當(dāng)光源并且可以以低功耗來(lái)驅(qū)動(dòng)。另外,OLED作為可以表現(xiàn)出無(wú)限的對(duì)比度、具有比LCD快約1000倍的響應(yīng)速度、并且可以以極好的視角代替LCD的顯示裝置而引起關(guān)注。
具體地,包括在OLED的發(fā)光層中的有機(jī)材料可以通過(guò)稱(chēng)為精細(xì)金屬掩模(FMM)的沉積掩模沉積在基板上,并且經(jīng)沉積的有機(jī)材料可以形成為與形成在沉積掩模上的圖案相對(duì)應(yīng)的圖案以用作像素。通常,沉積掩模由包含鐵(Fe)和鎳(Ni)的殷鋼合金的金屬板制成。在這種情況下,在金屬板的一個(gè)表面和另一表面上可以形成有穿過(guò)一個(gè)表面和另一表面的通孔,并且通孔可以形成在與像素圖案相對(duì)應(yīng)的位置處。因此,有機(jī)材料比如紅色、綠色、藍(lán)色的有機(jī)材料可以通過(guò)金屬板的通孔沉積在基板上,并且像素圖案可以形成在基板上。
金屬板可以通過(guò)軋制工藝制造,并且金屬板可以具有包括長(zhǎng)軸和短軸的矩形形狀。另外,金屬板可能會(huì)由于軋制工藝等而包含應(yīng)力,并且在金屬板中可能會(huì)發(fā)生翹曲現(xiàn)象(波變形)。由此,金屬板的長(zhǎng)軸方向上的兩個(gè)棱邊(corners)的長(zhǎng)度可能彼此不同。
沉積掩模可以通過(guò)以輥對(duì)輥方法供給金屬板來(lái)制造,并且金屬板可以在通過(guò)輥對(duì)輥方法施加預(yù)定量的拉力的狀態(tài)下被供給。此外,在用于在金屬板上形成通孔的圖案化過(guò)程中,可以向金屬板進(jìn)一步施加單獨(dú)的拉力。
也就是說(shuō),當(dāng)在進(jìn)一步施加單獨(dú)的拉力的狀態(tài)下在金屬板上形成掩模圖案并且單獨(dú)的拉力被移除時(shí),所形成的掩模圖案可能由于上述翹曲現(xiàn)象而不均勻。因此,形成在金屬板上的掩模圖案的形狀的均勻性和通孔的位置的均勻性可能會(huì)劣化,并且存在通孔的直徑不均勻的問(wèn)題,并且因此存在圖案沉積效率可能會(huì)降低的問(wèn)題,并且可能發(fā)生沉積不良。
因此,需要一種能夠解決上述問(wèn)題的新型沉積掩模及一種制造該沉積掩模的方法。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問(wèn)題
實(shí)施方式旨在提供一種能夠使形成在金屬板上的掩模圖案的長(zhǎng)度偏差最小化的沉積掩模及制造該沉積掩模的方法。
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H01L51-42 .專(zhuān)門(mén)適用于感應(yīng)紅外線(xiàn)輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專(zhuān)門(mén)適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
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