[發(fā)明專利]具有分隔壁的傳質(zhì)組件和塔及所涉及的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880073577.1 | 申請日: | 2018-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN111344050A | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 伊扎克·尼烏沃特 | 申請(專利權(quán))人: | 科氏-格利奇有限合伙公司 |
| 主分類號: | B01D3/14 | 分類號: | B01D3/14;B01D3/16;B01D3/20;B01D3/30 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 沈智娟 |
| 地址: | 美國堪*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 隔壁 傳質(zhì) 組件 涉及 方法 | ||
1.一種用于在傳質(zhì)塔內(nèi)的開放的內(nèi)部區(qū)域中使用的傳質(zhì)組件,所述傳質(zhì)組件包括:
分隔壁,所述分隔壁形成所述分隔壁的相對側(cè)上的第一子區(qū)域和第二子區(qū)域;
傳質(zhì)結(jié)構(gòu)的一個或多個區(qū),所述傳質(zhì)結(jié)構(gòu)的一個或多個區(qū)被定位在所述分隔壁的所述相對側(cè)上的所述子區(qū)域中;和
蒸氣限流器,所述蒸氣限流器被定位在所述第一子區(qū)域中,并且能夠在引起通過所述第一子區(qū)域的第一蒸氣流動阻力的第一取向和引起通過所述子區(qū)域的大于所述第一蒸氣流動阻力的第二蒸氣流動阻力的第二取向之間移動,以在蒸氣上升通過所述分隔壁的所述相對側(cè)上的所述第一子區(qū)域和所述第二子區(qū)域時允許調(diào)節(jié)蒸氣的體積分流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳質(zhì)組件,其中通過所述第一子區(qū)域的所述第一蒸氣流動阻力小于或等于通過所述分隔壁的相對側(cè)上的所述第二子區(qū)域的蒸氣流動阻力,并且所述第二蒸氣流動阻力大于通過在所述分隔壁的相對側(cè)上的所述第二子區(qū)域的所述蒸氣流動阻力。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳質(zhì)組件,其中所述蒸氣限流器包括錯流塔盤,所述錯流塔盤具有塔盤板、在所述塔盤板中的蒸氣流動孔以及出口堰,并且其中,當(dāng)所述錯流塔盤在所述第一取向時,所述出口堰延伸至所述塔盤板上方的第一高度,并且當(dāng)所述錯流塔盤在所述第二取向時,所述出口堰延伸至所述塔盤板上方的大于所述第一高度的第二高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的傳質(zhì)組件,其中所述蒸氣限流器還包括與所述出口堰相關(guān)聯(lián)的用于使所述出口堰在所述第一高度和所述第二高度之間移動的致動器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的傳質(zhì)組件,其中所述出口堰能夠樞轉(zhuǎn)地安裝,并且所述致動器能夠操作地與所述出口堰聯(lián)接,以使所述出口堰在所述塔盤板上方的所述第一高度和所述第二高度之間樞轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳質(zhì)組件,其中所述蒸氣限流器包括塔盤,所述塔盤具有塔盤板和在所述塔盤板中的蒸氣流動孔,并且其中,當(dāng)所述塔盤在所述第一取向時,所述蒸氣流動孔的總開口面積小于所述塔盤在所述第二取向時所述蒸氣流動孔的總開口面積。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的傳質(zhì)組件,其中所述蒸氣限流器還包括能夠移動以改變所述蒸氣流動孔的所述總開口面積的限流板,以及與所述限流板相關(guān)聯(lián)的用于控制所述限流板的移動的致動器。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的傳質(zhì)組件,其中所述限流板能夠滑動地安裝在所述塔盤的所述塔盤板下方,并且所述致動器與所述限流板能夠操作地聯(lián)接以引起所述限流板的滑動移動。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的傳質(zhì)組件,其中所述塔盤為錯流塔盤。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的傳質(zhì)組件,其中所述塔盤為煙囪式塔盤,并且在所述分隔壁的所述第一側(cè)上的傳質(zhì)結(jié)構(gòu)的所述區(qū)中的至少一個包括填料。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳質(zhì)組件,包括所述分隔壁中的另一個,其中所述分隔壁以彼此水平間隔開且平行的關(guān)系定位。
12.一種傳質(zhì)塔,包括:
殼體;
由所述殼體限定的開放的內(nèi)部區(qū)域;和
根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳質(zhì)組件,所述傳質(zhì)組件被定位在所述開放的內(nèi)部區(qū)域內(nèi)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的傳質(zhì)塔,其中通過所述第一子區(qū)域的所述第一蒸氣流動阻力小于或等于通過在所述分隔壁的所述相對側(cè)上的所述第二子區(qū)域的蒸氣流動阻力,并且所述第二蒸氣流動阻力大于通過在所述分隔壁的所述相對側(cè)上的所述第二子區(qū)域的所述蒸氣流動阻力。
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