[發(fā)明專利]用于分離和分析細(xì)胞的系統(tǒng)和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880071027.6 | 申請日: | 2018-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN111295245B | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 卡利安·翰迪克;維沙·沙瑪;普里亞達(dá)詩尼·戈戈伊;威廉·周;奧斯丁·佩恩;布萊恩·博尼費(fèi)斯;凱爾·格利森;約翰·康諾利;薩姆·塔克 | 申請(專利權(quán))人: | 伯樂實(shí)驗(yàn)室有限公司 |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00;G01N33/00;G01N33/06;G01N30/26 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 李慧慧;鄭霞 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 分離 分析 細(xì)胞 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種用于分離和分析靶細(xì)胞群體的方法,包括:
●將靶細(xì)胞群體接收到在基板的表面平面處限定的孔陣列中,其中所述孔陣列中的每個(gè)孔垂直于所述表面平面并在所述表面平面下方延伸到所述基板中,并且在未占據(jù)狀態(tài)中;
●實(shí)現(xiàn)所述孔陣列的至少包括第一孔和第二孔的孔的第一子集的顆??山咏鼱顟B(tài),其中靶細(xì)胞群體的第一靶細(xì)胞被接收在所述表面平面下方、穿過所述第一孔的開口端,并且所述靶細(xì)胞群體的第二靶細(xì)胞被接收在所述表面平面下方并穿過所述第二孔的開口端;
●將顆粒群體分配到所述孔陣列中,其中所述顆粒群體中的每個(gè)顆粒與探針偶聯(lián),所述探針對與所述靶細(xì)胞群體相關(guān)的生物分子具有結(jié)合親和力;
●在將所述顆粒群體分配到所述孔陣列中后,
○實(shí)現(xiàn)在所述顆??山咏鼱顟B(tài)中的所述孔的第一子集的至少所述第一孔的理想狀態(tài),其中實(shí)現(xiàn)所述理想狀態(tài)包括將所述顆粒群體的第一顆粒在所述表面平面下方接收到所述第一孔中,從而將所述第一顆粒與所述第一靶細(xì)胞共同定位在所述第一孔內(nèi);以及
○實(shí)現(xiàn)在所述顆??山咏鼱顟B(tài)中的所述孔的第一子集的至少所述第二孔的顆粒飽和狀態(tài),其中實(shí)現(xiàn)所述顆粒飽和狀態(tài)包括將所述顆粒群體的至少第二顆粒和第三顆粒接收到所述第二孔中,其中所述第二顆粒被接收在所述表面平面下方,并且所述第三顆粒橫穿所述表面平面;
●對整個(gè)孔陣列重新分配部分地保留的顆粒的子集,所述部分保留的顆粒的子集至少包括所述第三顆粒,其中在部分地保留的顆粒的所述子集中的每個(gè)部分地保留的顆粒橫穿所述表面平面,并且其中重新分配部分地保留的顆粒的所述子集包括:
○使顆粒分配流體沿著流體路徑穿過流體儲器沿著所述表面平面并以平行于所述表面平面的方向跨越所述孔陣列流動,其中所述顆粒分配流體使橫穿所述表面平面的至少所述第三顆粒從所述第二孔流出,從而將所述第二孔從所述顆粒飽和狀態(tài)轉(zhuǎn)變到理想狀態(tài);以及
●處理所述孔陣列的至少包括所述第一孔和所述第二孔的理想孔的集合,其中在所述理想孔的集合中的每個(gè)孔在所述理想狀態(tài)中,并且其中在所述理想狀態(tài)中的每個(gè)孔包含恰好所述靶細(xì)胞群體中的一個(gè)靶細(xì)胞和恰好所述顆粒群體中的一個(gè)顆粒。
2.一種用于分離和分析靶細(xì)胞群體的方法,包括:
●將靶細(xì)胞群體接收到在基板的表面平面處限定的孔陣列中,其中所述孔陣列中的每個(gè)孔垂直于在所述基板內(nèi)的表面平面并在所述表面平面下方延伸;
●實(shí)現(xiàn)所述孔陣列的孔的第一子集的顆??山咏鼱顟B(tài),其中所述孔的第一子集的第一孔將所述靶細(xì)胞群體的第一靶細(xì)胞接收在所述表面平面下方、穿過所述第一孔的開口端;
●在將所述靶細(xì)胞群體接收到所述孔陣列中之后,將顆粒群體分配到所述孔陣列中,其中所述顆粒群體的每個(gè)顆粒與探針偶聯(lián),所述探針對與所述靶細(xì)胞群體相關(guān)的生物分子具有結(jié)合親和力;
●在將所述顆粒群體分配到所述孔陣列中后,
○實(shí)現(xiàn)所述孔的第一子集的至少所述第一孔的顆粒飽和狀態(tài),其中實(shí)現(xiàn)所述顆粒飽和狀態(tài)包括將在所述表面平面下方的第一顆粒和橫穿所述表面平面的部分地保留的顆粒接收到所述第一孔中;
●對整個(gè)所述孔陣列重新分配部分地保留的顆粒的子集,其中部分地保留的顆粒的所述子集中的每個(gè)部分地保留的顆粒橫穿所述表面平面,其中重新分配部分地保留的顆粒的所述子集包括:
○使顆粒分配流體沿著流體路徑穿過流體儲器沿著所述表面平面并以平行于所述表面平面的方向跨越所述孔陣列流動,其中所述顆粒分配流體使橫穿所述表面平面的所述部分地保留的顆粒從所述第一孔流出,從而將所述第一孔從所述顆粒飽和狀態(tài)轉(zhuǎn)變到理想狀態(tài);以及
●處理所述孔陣列的至少包括所述第一孔的理想孔的集合,其中所述理想孔的集合中的每個(gè)孔在所述理想狀態(tài)中,并且包含恰好所述靶細(xì)胞群體中的一個(gè)靶細(xì)胞和恰好所述顆粒群體中的一個(gè)顆粒。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,還包括:
●在使所述部分地保留的顆粒從所述第一孔流出后,將所述部分地保留的顆粒傳輸?shù)剿隽黧w路徑的下游的整個(gè)所述孔陣列;以及
●將所述部分地保留的顆粒接收到下游孔中,其中所述下游孔在顆??山咏鼱顟B(tài)中,并且其中所述部分地保留的顆粒被接收在所述表面平面下方到所述下游孔中,從而將所述下游孔從顆??山咏鼱顟B(tài)轉(zhuǎn)變到理想狀態(tài)。
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