[發(fā)明專利]圖像形成裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880070593.5 | 申請日: | 2018-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN111279245A | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 柴山恭之;岸上勝博 | 申請(專利權(quán))人: | 麥克賽爾株式會社 |
| 主分類號: | G02B26/10 | 分類號: | G02B26/10;G02B17/08;H04N5/74 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;牛孝靈 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像 形成 裝置 | ||
1.一種將光源出射的光束投影到被投影面上形成投影圖像的圖像形成裝置,其特征在于,包括:
光掃描部,其使所述光束在第一方向和與所述第一方向交叉的第二方向上反射偏轉(zhuǎn);和
投影系統(tǒng),其將反射偏轉(zhuǎn)后的所述光束引導(dǎo)至所述被投影面,
所述投影系統(tǒng)構(gòu)成為,入射到該投影系統(tǒng)的各所述光束的主光線的光路,在構(gòu)成所述投影系統(tǒng)的光學(xué)元件的入射面至出射面之間交叉。
2.如權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于:
所述投影系統(tǒng)包括:
第一反射面,其使從所述入射面入射到該投影系統(tǒng)的所述光束反射;和
第二反射面,其使在所述第一反射面上反射后的所述光束向所述出射面反射。
3.如權(quán)利要求2所述的圖像形成裝置,其特征在于:
所述入射面、所述出射面、所述第一反射面和所述第二反射面是各自獨(dú)立的面,能夠由不同的非球面多項(xiàng)式描述。
4.如權(quán)利要求2所述的圖像形成裝置,其特征在于:
所述投影系統(tǒng)構(gòu)成為,從所述入射面入射到該投影系統(tǒng)的各所述光束的主光線的光路在所述第一反射面至所述第二反射面之間交叉。
5.如權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于:
所述投影系統(tǒng)由單個光學(xué)元件構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于:
還包括掃描前光學(xué)系統(tǒng),其使入射到所述光掃描部的所述光束成為會聚光。
7.如權(quán)利要求6所述的圖像形成裝置,其特征在于:
所述會聚光的會聚位置位于所述投影系統(tǒng)的內(nèi)部。
8.如權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于:
所述光掃描部包括:
反射面,其使輸入的所述光束反射;和
驅(qū)動部,其使所述反射面在所述第一方向和所述第二方向上進(jìn)行往復(fù)的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動,
在所述反射面的旋轉(zhuǎn)角為零時,所述反射面的法線與所述被投影面的交點(diǎn)位于所述投影圖像之外。
9.如權(quán)利要求8所述的圖像形成裝置,其特征在于:
在所述光束于所述第一方向發(fā)生反射偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)角的最大值比所述光束于所述第二方向發(fā)生反射偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)角的最大值大的情況下,所述光束的主光線在所述反射面的旋轉(zhuǎn)角為零時的、由所述法線和所述第二方向決定的平面內(nèi),從相對于該法線具有規(guī)定傾角的方向入射到所述光掃描部。
10.如權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于:
所述光掃描部包括MEMS反射鏡。
11.如權(quán)利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于:
令所述出射面到所述被投影面的距離為d,所述投影圖像的寬度方向的長度為W,有d/W≤0.3。
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