[發(fā)明專利]用于接收導(dǎo)電燃料的設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880069896.5
• 申請日: 2018-09-05
• 公開（公告）號: CN111279267B
• 公開（公告）日: 2023-08-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 約翰內(nèi)斯·克里斯蒂安·里昂納多斯·弗蘭肯;M·R·德巴爾
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05G2/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王益

一種用于接收導(dǎo)電燃料的設(shè)備包括：主體；電流產(chǎn)生機(jī)構(gòu)；和磁產(chǎn)生機(jī)構(gòu)。主體限定用于接收燃料的表面。電流產(chǎn)生機(jī)構(gòu)適用于在所述主體中產(chǎn)生電流，所述電流具有至少平行于所述表面的分量。磁產(chǎn)生機(jī)構(gòu)布置成產(chǎn)生具有至少垂直于所述表面的分量的磁場。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2017年10月26日提交的歐洲/美國申請17198469.3的優(yōu)先權(quán)，該歐洲/美國申請通過引用全文并入本文。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于接收導(dǎo)電燃料的設(shè)備。本發(fā)明具體涉及一種用于接收導(dǎo)電燃料的設(shè)備，所述設(shè)備設(shè)置有用于對所接收的燃料施力以使其移動的機(jī)構(gòu)。所述設(shè)備可以是適合于接收并至少部分地容納其接收的導(dǎo)電燃料的燃料收集器。所述設(shè)備可以構(gòu)成激光產(chǎn)生等離子體輻射源的部分。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種構(gòu)造為將所期望的圖案施加到襯底上的機(jī)器。光刻設(shè)備能夠例如用于集成電路(IC)的制造中。光刻設(shè)備可例如將來自圖案形成裝置(例如，掩模)的圖案投影到設(shè)置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。

光刻設(shè)備用于將圖案投影到襯底上的輻射波長決定了能夠在該襯底上形成的特征的最小尺寸。使用EUV輻射(具有在4-20nm范圍內(nèi)的波長的電磁輻射)的光刻設(shè)備可用于在襯底上形成比常規(guī)光刻設(shè)備(所述常規(guī)光刻設(shè)備可以例如使用波長為193nm的電磁輻射)更小的特征。

EUV輻射可以使用等離子體來產(chǎn)生。等離子體可以例如通過將激光束引導(dǎo)至輻射源中的燃料處而生成。所產(chǎn)生的等離子體可以發(fā)射EUV輻射。這種輻射源被稱為激光產(chǎn)生等離子體(LPP)輻射源。在這種LPP輻射源內(nèi)，燃料的至少一部分可被入射到所述輻射源內(nèi)的表面上。可能期望限制入射到LPP源內(nèi)的至少光學(xué)元件(諸如例如輻射收集器)的表面上的這種燃料的量。燃料對輻射源中這種光學(xué)元件表面的污染可能導(dǎo)致輻射源性能下降，進(jìn)而可能導(dǎo)致相關(guān)聯(lián)的光刻設(shè)備性能劣化。最終，這可能導(dǎo)致光刻設(shè)備的大量停機(jī)時間，同時清洗或更換輻射源的部件。

本發(fā)明的目的是消除或減輕現(xiàn)有技術(shù)的至少一個問題。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種用于接收導(dǎo)電燃料的設(shè)備，所述設(shè)備包括：主體，限定用于接收燃料的表面；電流產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，用于在所述主體中產(chǎn)生電流，所述電流具有至少平行于所述表面的分量；和磁產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，布置成產(chǎn)生具有至少垂直于所述表面的分量的磁場。

所述設(shè)備可以是燃料收集器。所述燃料收集器可以是適合于接收并至少部分地容納其接收的導(dǎo)電燃料。

導(dǎo)電燃料可以被由主體限定的表面接收。接近表面的主體的至少一部分由導(dǎo)電材料形成，以支持電流。當(dāng)電流產(chǎn)生機(jī)構(gòu)在主體中產(chǎn)生電流時，電流的至少一部分可以流過沉積在表面上并因此與表面接觸的任何導(dǎo)電燃料。當(dāng)電流流過燃料時，電流將對燃料施加力。

所施加的力由洛倫茲力公式給出。特別地，所述力既垂直于磁場又垂直于電流。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面的設(shè)備是有利的，因為它提供了用于接收導(dǎo)電燃料的表面，并且電流產(chǎn)生機(jī)構(gòu)和磁產(chǎn)生機(jī)構(gòu)一起提供了向燃料施加力的機(jī)構(gòu)。這例如能夠允許引導(dǎo)燃料遠(yuǎn)離其所入射的表面的區(qū)域或區(qū)，并且引導(dǎo)燃料朝向例如該燃料的收集容器或儲存器。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面的設(shè)備的有益效果是，該設(shè)備提供了向入射于其上的燃料施加力的機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)能夠防止燃料在表面上積聚。通常，當(dāng)燃料入射在表面上時，燃料的第一部分可以沉積在表面上，并且燃料的第二部分可以從表面散射或反彈。可能方便的是，例如，將表面布置成使得在使用時燃料以掠入射角入射到表面上。通過這種布置，從入口孔等入射到表面上并且從表面反彈的燃料的所述部分將趨于具有整體上遠(yuǎn)離入口孔指向的軌跡。但是，如果足夠大量的燃料積聚在表面上，則被引導(dǎo)朝向表面的燃料的至少一部分可能會朝向入口孔反彈回來。

本發(fā)明的第一方面能夠因此通常檢索從表面反向散射的燃料的量，即沿著大致反向平行于入射燃料的初始軌跡的方向反彈的燃料的量。